Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Preclean II #293805095 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le Preclean II est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à haute performance, conçu pour le nettoyage et le préconditionnement de plaquettes de silicium dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur est un composant essentiel dans la fabrication de circuits intégrés avancés et d'autres dispositifs microélectroniques en éliminant la contamination et les couches d'oxyde de la surface de la plaquette avant les dépôts ultérieurs de film. Réacteur AMAT Preclean II est un outil de traitement par lots qui peut accueillir plusieurs plaquettes de silicium simultanément, permettant un traitement efficace et uniforme de grandes quantités de plaquettes en une seule fois. Cette capacité à haut débit est essentielle pour répondre aux exigences de production exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs tout en maintenant des performances de processus cohérentes et la qualité des produits. La chambre du réacteur est construite en acier inoxydable de haute pureté et dispose de systèmes avancés de vide et de distribution de gaz pour créer un environnement contrôlé pour le traitement des plaquettes. Les gaz de procédé sont introduits dans la chambre par des injecteurs de gaz calibrés avec précision, assurant une répartition uniforme des réactifs sur toutes les plaquettes du lot. Cette uniformité est essentielle pour obtenir des résultats de nettoyage et de conditionnement cohérents sur chaque plaquette, conduisant en fin de compte à une amélioration des performances et du rendement du dispositif. Le coeur des matériaux appliqués Le réacteur Preclean II est sa source de plasma, qui génère une décharge plasma hautement réactive pour faciliter l'élimination des contaminants et des couches d'oxyde natif de la surface de la plaquette. Le plasma est créé en appliquant la puissance radiofréquence (RF) à une combinaison de gaz de procédé, typiquement un mélange d'hydrogène (H2) et d'argon (Ar). Les espèces énergétiques du plasma interagissent avec la surface de la plaquette, brisant les contaminants et les oxydes en sous-produits volatils qui sont pompés hors de la chambre. Le réacteur Preclean II offre un large éventail de paramètres de processus qui peuvent être adaptés aux exigences spécifiques de nettoyage des plaquettes, y compris la température, la pression, les débits de gaz et les niveaux de puissance RF. Ces paramètres peuvent être optimisés pour atteindre le niveau souhaité d'efficacité de nettoyage tout en minimisant les dommages à la surface de la plaquette et en maintenant un débit élevé. En outre, le réacteur est équipé de systèmes avancés de manutention des plaquettes qui assurent un positionnement et un alignement précis des plaquettes pendant le traitement, améliorant ainsi l'uniformité et la répétabilité du processus de nettoyage. Une caractéristique clé du réacteur Preclean II AMAT/APPLIED MATERIALS est sa capacité à réaliser des processus de nettoyage à sec et à l'humide sur des plaquettes de silicium. Le nettoyage par voie humide implique l'utilisation de solutions chimiques liquides pour éliminer les contaminants organiques et inorganiques de la surface des plaquettes, tandis que le nettoyage à sec utilise la gravure par plasma pour éliminer les couches d'oxyde et les résidus. Le réacteur peut être configuré pour passer de façon transparente entre ces modes de nettoyage, ce qui permet une flexibilité maximale pour relever un large éventail de défis de contamination dans la fabrication de semi-conducteurs. En conclusion, le réacteur AMAT Preclean II est un outil de pointe pour le nettoyage et le préconditionnement des plaquettes semi-conductrices, offrant un traitement à haut débit, une technologie plasma avancée, un contrôle précis des procédés et des capacités de nettoyage polyvalentes. En éliminant efficacement les contaminants et les couches d'oxyde des plaquettes de silicium, le réacteur Preclean II des matériaux appliqués joue un rôle essentiel pour garantir la qualité, la fiabilité et la performance des dispositifs semi-conducteurs dans l'industrie de la microélectronique hautement compétitive d'aujourd'hui.