Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT SiCoNi #9375200 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Producteur GT SiCoNi est une chambre avancée à haut rendement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçue pour l'industrie des semi-conducteurs. Ce réacteur utilise un revêtement poreux breveté SiCoNi (Silicon Carbide Nickel) sur les surfaces de traitement de la chambre CVD pour améliorer l'uniformité, augmenter le débit et réduire la charge en CMP. Le revêtement breveté SiCoNi offre une combinaison unique de propriétés chimiques, thermiques et mécaniques. Il a une excellente uniformité de dépôt, permettant un contrôle précis du procédé et la répétabilité. Sa stabilité thermique permet également d'améliorer la stabilité du processus CVD. La combinaison de haute résistance thermique et chimique permet également d'améliorer le chargement CMP pendant le nettoyage. La chambre CVD AMAT Producer GT SiCoNi est équipée d'une capacité de chargement CMP pulsé à haute température, permettant un chargement CMP supérieur et un contrôle de la qualité pendant le processus de nettoyage. Il présente aussi une haute performance d'écoulement bas Cooljet™ le système propre, qui enlève rapidement des polluants de la chambre et maintient l'intégrité de la chambre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT SiCoNi est équipé de multiples gaz de procédés, dont l'azote et l'oxygène, pour assurer une compatibilité optimale des procédés. Il possède un injecteur à base de Si faible, permettant de réduire les températures de gravure et d'améliorer le contrôle et la stabilité du procédé. Pour améliorer la stabilité et la répétabilité des paramètres du procédé, le réacteur dispose également d'une double zone de conception à paroi chaude pour un contrôle uniforme de la température. Producteur GT SiCoNi est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 200mm en taille avec une serrure de charge entièrement automatisée pour le chargement et le déchargement des plaquettes. Son système avancé de régulation de la température assure une stabilité fiable du processus pendant les longues séries de production et permet également une configuration facile du processus. En outre, le réacteur est conçu pour répondre aux normes de sécurité les plus strictes, assurant une sécurité maximale dans un environnement industriel. AMAT/APPLIED MATERIALS Producteur GT SiCoNi est une chambre CVD polyvalente conçue pour répondre aux attentes de haute qualité et de performance de l'industrie des semi-conducteurs. Ses capacités de traitement avancées, associées au revêtement avancé SiCoNi, offrent un contrôle et une uniformité supérieurs. Sa polyvalence et ses performances en font une solution idéale pour les processus semi-conducteurs les plus difficiles.