Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #293822848 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur GT est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) utilisé pour le dépôt de couches minces de matériaux contenant du silicium tels que du silicium polycristallin, du nitrure de silicium et du dioxyde de silicium. Le réacteur est conçu pour optimiser les performances de traitement avancées et fournir une grande uniformité et une qualité de film de pointe à des taux allant jusqu'à 1000nm/heure. La configuration double source RF (cored split) permet un contrôle flexible de la puissance et du débit du matériau déposé pour répondre aux besoins d'applications spécifiques. La grande taille du suscepteur et le contrôle d'homogénéité amélioré le rendent idéal pour le dépôt de matière sur de grands substrats tels que des plaquettes tout en permettant un réglage précis des dimensions du dispositif. La chambre est divisée en deux zones de processus verticales avec un contrôle de pression indépendant et des niveaux de vide séparés pour les zones supérieure et inférieure. Cette conception permet le dépôt de matériaux à des vitesses différentes ainsi que la prévention de la contamination croisée entre différents procédés. En outre, le réacteur est conçu avec des caractéristiques de refroidissement vertical avancées pour maintenir un contrôle de température uniforme dans toute la chambre et entre les deux zones de processus verticales. Un équipement avancé de test en boucle fermée (CLT) mesure et ajuste rapidement les paramètres du processus en temps réel, garantissant ainsi une qualité de film précise et une très grande uniformité. Le système PECVD est construit avec une variété d'options pour différentes applications, y compris le dépôt en flanc, le dépôt à haut débit, le dépôt à bas k, la planarisation, la gravure/bande et le dépôt multicouche/cheminée. De plus, l'unité peut être équipée de systèmes avancés d'alimentation en gaz, comme l'option Dynamic Low Fluoride (DLF) qui aide à minimiser toute contamination possible. Bref, le réacteur PECVD d'AMAT Producer GT est une machine avancée avec des commandes faciles à utiliser et un excellent contrôle de l'uniformité, conçue pour des performances de dépôt exceptionnelles et offrant une qualité de film de pointe avec la flexibilité nécessaire pour répondre aux exigences spécifiques du procédé.