Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9198380 à vendre en France
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Vendu
ID: 9198380
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
CVD System, 12"
Qty / Part number / Description
(1) / 0190- 03068 / PIO Cable board OHT
(1) / 0190- 44306 / Loadlock EUROTHEM
(3) / 0140- 18773 / Pedestal lift motor cable side 1
(3) / 0140- 18772 / Pedastal lift motor cable side 2
(6) / 3700- 01376 / Pedastal O- ring
(1) / 0140- 17152 / Chamber controller signal cable
(2) / 0195- 11067 / Chamber AC box
(3) / 3980- 00027 / RING BOLT, MF80, 5.95OD W /.358
(6) / 0021- 98006 / ENP Cover, crossdrill
(1) / - / LCF Sensor cover
(3) / - / EV3 Manifold
(2) / - / LCF Sensor window
(8) / - / LCF Sensor srew
Currently warehoused
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur GT est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe qui est utilisé dans la production de semi-conducteurs. La conception avancée de cet équipement en fait l'outil idéal pour produire des couches de matériaux ultra-minces de haute qualité sur des substrats semi-conducteurs. Le système utilise une conception à deux chambres qui permet un processus flexible. La chambre principale est la chambre de réaction et elle est équipée d'un réseau d'entrées de gaz qui sont réglables pour différentes recettes. Cette chambre abrite également un suscepteur à paroi chaude et une source de plasma électromagnétique. Le suscepteur est chauffé à des températures allant jusqu'à 950 ° C afin de fournir l'énergie nécessaire pour commencer le processus de réaction chimique. La source de plasma, quant à elle, aide à décomposer les molécules de gaz en atomes constitutifs et à assurer une répartition uniforme de ces atomes. L'unité est également équipée d'un contrôleur et d'une interface utilisateur. L'utilisateur peut entrer les recettes désirées, puis le contrôleur configurera la machine en conséquence. Cela garantit que toutes les étapes du processus de CVD seront comptabilisées. L'utilisateur peut également ajuster divers paramètres tels que la température, la pression et le débit pour affiner les performances de l'outil. Une fois le processus terminé, une ligne d'échappement refroidie sort de la chambre de réaction et dirige les gaz de procédé utilisés à l'extérieur de l'actif. Le modèle de refroidissement permet également de maintenir la température et la pression de la chambre aux niveaux optimaux. En plus de ses caractéristiques, AMAT Producer GT offre une large gamme de capacités avancées, y compris le CVD à haut rapport d'aspect réactif, le traitement thermique rapide à basse température (RTP), le CVD à très basse température (LTCVD), et bien plus encore. La conception avancée de cet équipement lui permet d'accueillir une grande variété de substrats et de matériaux, ce qui en fait un outil polyvalent pour la production de semi-conducteurs. En conclusion, APPLIED MATERIALS Producer GT est un réacteur CVD avancé qui a été conçu avec la flexibilité nécessaire pour accueillir une grande variété de substrats et de matériaux. Il offre un large éventail de fonctionnalités et de capacités, ainsi qu'une facilité d'utilisation et une interface contrôleur et utilisateur robuste. Cela en fait un outil idéal pour produire des couches de matériaux de haute qualité pour la production de semi-conducteurs.
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