Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9208937 à vendre en France
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Vendu
ID: 9208937
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2011
CVD System, 12"
Items: FI
FI Robot
FI Robot controller
Aligner
Cool station
FES
FIS
TCS/RT
FFU
Items: LL
LL Upper lifts
LL Upper lift drivers
LL Lower lifts
LL Lower lift drivers
LL Pump
LL Foreline
Items: BUFFER FX
Robot
FX Robot linkage (batwing/bridge)
Robot blades
Robot controller
LCF
Buffer pump
Buffer foreline
MF Controller
Chamber A- ETERNA FCVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, isolator)
Ceramic process kit
Heaters: Pedestal
Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
Chamber B- SACVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, isolator)
Ceramic process kit
Heaters
RF Filters
Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
Chamber C- ETERNA FCVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, Isolator)
Ceramic process kit
Heaters: Pedestal
RF filters: N/A Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
2011 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur GT est un réacteur à haut débit, à chambre unique, horizontal, à cadre fermé, utilisé pour la production de matériaux semi-conducteurs monocristallins et polycristallins. Cet équipement offre des capacités de débit élevées, entraînant des temps de cycle réduits, ainsi que des rendements de matériaux améliorés. Le système comprend une interface utilisateur graphique avancée, permettant un contrôle rapide et facile des paramètres. Il se compose également d'une chambre turbo-pompée, supportée horizontalement pour une performance thermique et une uniformité optimales. AMAT Producer GT comprend un creuset de source intégré avec un régulateur de température avancé pour une croissance cristalline parfaite. Un porte-substrat automatique permet un positionnement précis du substrat et un déplacement contrôlé du substrat. Il dispose également d'un pyromètre avancé pour des mesures de température plus précises, ainsi que d'une machine d'injection de gaz in situ basse pression pour des conditions de croissance optimales. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT est facilement dimensionné pour une installation et un fonctionnement faciles dans un laboratoire de fabrication de semi-conducteurs standard. Il utilise des aimants haute performance qui fournissent une intensité de champ optimale et uniforme pour une croissance cristalline uniforme. Il est également équipé d'un outil de refroidissement dynamique pour réduire le cyclage thermique de la chambre et réduire les dépôts de contaminants. De plus, l'actif comprend des capacités avancées de profilage des bords de substrat pour assurer une croissance cristalline uniforme, ainsi qu'un modèle intégré de refroidissement des plaquettes pour réduire la contrainte thermique. Dans l'ensemble, le producteur GT est un réacteur de production de matériaux semi-conducteurs ultra-rapides qui offre des performances, une fiabilité et une efficacité inégalées. Avec son interface utilisateur avancée, son équipement de régulation de température robuste, son creuset de source intégré, son système de refroidissement dynamique et son unité de refroidissement avancée, ce réacteur haute performance est le choix idéal pour la production de semi-conducteurs de pointe.
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