Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9208937 à vendre en France

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ID: 9208937
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2011
CVD System, 12" Items: FI FI Robot FI Robot controller Aligner Cool station FES FIS TCS/RT FFU Items: LL LL Upper lifts LL Upper lift drivers LL Lower lifts LL Lower lift drivers LL Pump LL Foreline Items: BUFFER FX Robot FX Robot linkage (batwing/bridge) Robot blades Robot controller LCF Buffer pump Buffer foreline MF Controller Chamber A- ETERNA FCVD RPS Upper lid stack (gas box, face plate, isolator) Ceramic process kit Heaters: Pedestal Pin lifts Pin lift driver Heater lifts Heater lift drivers Ch FL, TV, Iso valve Gas panel (MFC, LFM intact) Chamber controller Chamber B- SACVD RPS Upper lid stack (gas box, face plate, isolator) Ceramic process kit Heaters RF Filters Pin lifts Pin lift driver Heater lifts Heater lift drivers Ch FL, TV, Iso valve Gas panel (MFC, LFM intact) Chamber controller Chamber C- ETERNA FCVD RPS Upper lid stack (gas box, face plate, Isolator) Ceramic process kit Heaters: Pedestal RF filters: N/A Pin lifts Pin lift driver Heater lifts Heater lift drivers Ch FL, TV, Iso valve Gas panel (MFC, LFM intact) Chamber controller 2011 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur GT est un réacteur à haut débit, à chambre unique, horizontal, à cadre fermé, utilisé pour la production de matériaux semi-conducteurs monocristallins et polycristallins. Cet équipement offre des capacités de débit élevées, entraînant des temps de cycle réduits, ainsi que des rendements de matériaux améliorés. Le système comprend une interface utilisateur graphique avancée, permettant un contrôle rapide et facile des paramètres. Il se compose également d'une chambre turbo-pompée, supportée horizontalement pour une performance thermique et une uniformité optimales. AMAT Producer GT comprend un creuset de source intégré avec un régulateur de température avancé pour une croissance cristalline parfaite. Un porte-substrat automatique permet un positionnement précis du substrat et un déplacement contrôlé du substrat. Il dispose également d'un pyromètre avancé pour des mesures de température plus précises, ainsi que d'une machine d'injection de gaz in situ basse pression pour des conditions de croissance optimales. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT est facilement dimensionné pour une installation et un fonctionnement faciles dans un laboratoire de fabrication de semi-conducteurs standard. Il utilise des aimants haute performance qui fournissent une intensité de champ optimale et uniforme pour une croissance cristalline uniforme. Il est également équipé d'un outil de refroidissement dynamique pour réduire le cyclage thermique de la chambre et réduire les dépôts de contaminants. De plus, l'actif comprend des capacités avancées de profilage des bords de substrat pour assurer une croissance cristalline uniforme, ainsi qu'un modèle intégré de refroidissement des plaquettes pour réduire la contrainte thermique. Dans l'ensemble, le producteur GT est un réacteur de production de matériaux semi-conducteurs ultra-rapides qui offre des performances, une fiabilité et une efficacité inégalées. Avec son interface utilisateur avancée, son équipement de régulation de température robuste, son creuset de source intégré, son système de refroidissement dynamique et son unité de refroidissement avancée, ce réacteur haute performance est le choix idéal pour la production de semi-conducteurs de pointe.
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