Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9227461 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT Reactor est un équipement intégré de pointe pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteur à plasma à couplage inductif monobloc (ICP). Doté d'une source ICP et d'une cellule d'effusion, ce réacteur compact offre un débit élevé pouvant atteindre 80 wafers par heure et un contrôle précis des processus pour créer des structures de dispositifs robustes et fiables. Le système dispose également d'une technologie exclusive de manutention des plaquettes, Aerosol Jet Coater, qui offre une cohérence et une homogénéité supérieures pour les revêtements de couvertures et les taux de gravure. AMAT Producer GT ICP source a été conçu pour optimiser les performances du processus et le contrôle du rendement, avec une technologie de bobine sur mesure qui minimise les fluctuations de puissance tout en augmentant l'uniformité du plasma entre les plaquettes. Cette unité dispose également d'un algorithme unique de contrôle automatique de la puissance (APC) pour améliorer la précision et la répétabilité des processus. En outre, la capacité de modulation haute fréquence de la source permet un réglage fin de la distribution du plasma pour améliorer encore la prévisibilité et la répétabilité du procédé. L'Aerosol Jet Coater utilise une technologie propriétaire de gouttelettes pour déposer uniformément des implants en couches minces de part et d'autre de la plaquette. Cette technologie innovante permet une grande précision, des épaisseurs de film réglables jusqu'à 4 μ m, avec une uniformité de mieux que 2 %. De plus, il présente des niveaux de couverture de surface réglables, permettant un contrôle précis du processus de dépôt du film. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le processeur producteur GT dispose également d'une cellule d'effusion multi-tubes pour l'homogénéité des sources d'éléments contrôlés, afin de réduire la résistance à l'interface et les fuites de jonction. La machine dispose également d'une chambre d'échappement qui assure un débit de gaz optimal pour obtenir une uniformité maximale du film tout en assurant l'élimination de toutes les particules. Le réacteur GT producteur est bien adapté à une large gamme d'applications de fabrication à l'échelle nanométrique, y compris le MEMS, les nanostructures, les semi-conducteurs d'oxyde métallique, les matériaux nanostructurés et les matériaux optoélectroniques. L'outil peut être intégré dans une configuration d'outil modulaire pour offrir une solution de processus de bout en bout pour une variété de besoins de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT est le choix idéal pour la fabrication d'appareils nanométriques de pointe.