Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9228298 à vendre en France
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ID: 9228298
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2009
CVD System, 12"
(3) Chambers
EFEM:
(4) Load ports
Load port type: TDK / TAS300 / G1
(2) EFEM Robots
ATM 0090-25011 Robot
KAWASAKI 3NX510B-D001 ATM Robot
TM and chamber robot
BROOKS 0190-25011 Vacuum robot
Chambers:
623B-24562 Throttle valve
APEX 3013 RF Generator
MKS ASTRON 2L Remote plasma system
Chamber A / B / C:
Gas line position / Process gas / MFC Size / Maker
1 / N2 Purge
2 / NF3 / 15000 sccm / Unit
3 / AR / 10000 sccm / Unit
4 / SIH4 / 1000 sccm / Unit
5 / N2 PURGE / - / -
6 / NH3 / 700 sccm / Unit
7 / N2 PURGE / 25000 sccm / Unit
8 / AR / 10000 sccm / Unit
10 / O2 / 10000 sccm / Unit
11 / N2O / 1000 sccm / Unit
12 / N2O / 15000 sccm / Unit
20 / TEOS / 7 g/min / HORIBA STEC
21 / AR / - / -
22 / N2 PURGE / 15000 sccm / Unit
Electrical requirements:
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 3-Phase, 4-Wires
Full load current: 240 Amp
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur GT est un réacteur semi-conducteur de nouvelle génération qui est utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur est conçu pour les équipements de lithographie haut de gamme et offre les derniers en matière de contrôle de la chaleur et des particules distribuées. Le réacteur est conçu pour optimiser les processus qui nécessitent une faible défectuosité et une précision critique. AMAT Producer GT se compose de deux composants principaux, la chambre de procédés et les sous-composants. La chambre de process contient les cassettes de wafer ainsi que les modules de process avec optique aérienne, micro-ondes, résonance magnétique, laser et systèmes d'implants ioniques. Les sous-composants comprennent la source de plasma, la pompe, les refroidisseurs, le système d'alimentation en gaz, les alimentations électriques et l'automatisation. La source de plasma est conçue pour générer une source d'ions à haute densité d'ions avec un faible entraínement des particules. Il est enfermé dans une enceinte blindée RF pour prévenir les perturbations de l'IME. Le système de distribution de gaz est utilisé pour assurer un contrôle précis des flux de gaz, de la pression et de la température. Le gaz est conçu pour être isolé et sans fuite. Les alimentations sont spécialement conçues pour une faible consommation d'énergie et distribuent uniformément la puissance à tous les modules de processus. Ils sont capables de faire face aux fluctuations de tension du système, ce qui réduit le risque de perturbation du processus. La pompe à vide est une conception turbomoléculaire qui permet un contrôle précis et un fonctionnement fiable, même avec de grandes variations de pression. Les refroidisseurs assurent un refroidissement régulier nécessaire au traitement fiable des substrats. Les réacteurs sont conçus à l'aide d'une technologie d'imagerie 3D pour créer les paramètres optimisés pour la lithographie. Cette combinaison de composants assure un traitement très uniforme des caractéristiques jusqu'à 22nm et une faible défectivité. Les capacités d'automatisation de APPLIED MATERIALS Producer GT en font une solution idéale pour la production de semi-conducteurs à haut et bas volumes. Il est conçu pour traiter les besoins de traitement multi-chambres avec programmation programmable de plaquettes et contrôle serré des paramètres de processus et de la gestion de la recette de processus. L'automatisation offre également des capacités d'autosurveillance et d'auto-ajustement qui réduisent le temps de démarrage et augmentent le temps de mise à jour de la plateforme. AMAT a conçu Producer GT pour maximiser la productivité et le rendement tout en minimisant le coût de propriété. Ce réacteur est la solution idéale pour les fabricants qui cherchent à optimiser leurs capacités de contrôle des procédés semi-conducteurs.
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