Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9231995 à vendre en France
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ID: 9231995
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
System, 12"
(3) Chambers
(4) Load ports
Factory interface: 5.4
AMHS Configuration: OHT
FE Computer type: FES
FI Computer type: FIS
RT Computer type: CL7
Misc hardware:
FI Robot type: KAWASAKI Track
FI Robot blade type: Aluminum
LCF
Buffer robot type: GT
Buffer robot blade type: Ceramic
(2) Roll around monitors
Remote AC: 208 V
Ozone cabinet: INUSA
Heat exchanger 1: UNISEM
(3) MKS Ozone generators
Chamber A, B and C:
Type: SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litres
Heater type: Vacuum chuck
Gas panel configurations:
Gas box type / 1-1/8 C-Seal surfacemount
Stick 1 / NF3 - 15000 sccm
Stick 2 / AR - 15000 sccm
Stick 3 / N2 - 5000s ccm
Stick 4 / N2 - 50000 sccm
Stick 5 / He - 30000 sccm
Liquid 1 / TEOS - 7 g/min
2008 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT est un réacteur à dépôt thermique chimique en phase vapeur (CVD) en couche mince, généralement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le dépôt de différentes couches de matériau sur des plaquettes, telles que des oxydes, du silicium polycristallin et des métaux. L'outil utilise une chambre de procédé à quartz à paroi froide pour contrôler la température de l'environnement de dépôt, et un équipement d'injection de gaz pour disperser les gaz réactifs dans la chambre de réaction. Le système se compose de quatre composants principaux : la chambre de traitement, l'unité d'injection de gaz, la machine de transport de plaquettes et l'outil électrique. La chambre de procédé est une grande chambre à vide avec un actif de filtration HEPA qui aide à filtrer les particules en suspension dans l'air. Il contient également un tube à quartz, qui aide à maintenir la température du processus régulé. Le modèle d'injection de gaz est chargé de fournir la quantité précise de gaz réactifs et de contrôler la vitesse d'introduction dans la chambre de procédé. Le matériel de transport des plaquettes est chargé de charger les plaquettes dans la chambre de traitement, et de déplacer les plaquettes à l'intérieur de la chambre. Le système est conçu avec un débit maximum de 200 plaquettes par heure. Enfin, une unité de puissance pilotée par ordinateur est chargée de contrôler le niveau de puissance jusqu'à la chambre de procédé. Ceci est important, car les différents films nécessitent des niveaux de puissance différents pour assurer le dépôt correct. La machine dispose également d'une compensation automatique de puissance, ce qui aide à maintenir un dépôt plus cohérent pour différents matériaux. En conclusion, AMAT Producer GT est un outil CVD complexe pour le dépôt de couches minces dans l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose d'un certain nombre de composants différents qui travaillent ensemble pour permettre le dépôt précis d'une variété de films sur des plaquettes. L'outil est conçu pour fournir un débit maximum de 200 plaquettes par heure, et est capable de compenser automatiquement les changements de puissance lors du dépôt de différents films. Cela contribue à maintenir un dépôt cohérent et de haute qualité.
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