Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9235066 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Producteur GT Reactor est une chambre de dépôt de matériaux avancés (AMD) utilisée pour l'isolation de tranchées peu profondes (STI), les couches de métal barrière et de passivation dans la production de dispositifs semi-conducteurs. Cette technologie de pointe, combinée à un degré élevé de précision de fabrication, de précision et de robustesse, fait du réacteur AMAT Producer GT un équipement de dépôt hautement fiable et efficace pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur GT producteur comprend plusieurs caractéristiques et capacités de pointe. Le système fournit un taux de production élevé, et est capable d'exécuter plusieurs processus complexes en parallèle. Les composants principaux de l'unité comprennent une chambre de dépôt automatisée, un suscepteur et un transporteur de plaquettes, une chambre épi-ready, un générateur de micro-ondes à double chambre et plusieurs accessoires supplémentaires. Le réacteur fonctionne en exposant une plaquette de silicium à un environnement à vide élevé. Un suscepteur soulève la plaquette à une position de procédé sur la phase de production, tandis qu'un transporteur de plaquettes ramène la plaquette de l'étage à la baie de stockage. Le suscepteur, le transporteur de plaquettes et l'étape de production sont tous alimentés électriquement. La chambre épi-ready est l'endroit où le processus de dépôt ultime a lieu. Une machine de refoulement précise à l'intérieur de la chambre fournit du matériau - tel que du silicium, du dioxyde de silicium ou du siliciure - à partir du matériau source sur un suscepteur chauffé sous forme d'un film mince et uniforme. Ce matériau déposé est ensuite poli, gravé ou soumis à d'autres procédés créant des caractéristiques souhaitées sur la plaquette. Le générateur hyperfréquence est le composant le plus sophistiqué de l'outil. Il est utilisé pour générer de l'énergie hyperfréquence pour chauffer précisément la plaquette et permettre un dépôt de couches minces très précis et cohérent. Le générateur hyperfréquence à double chambre pour le réacteur producteur GT comprend quatre antennes indépendantes, deux boîtiers de contrôle hyperfréquence et plusieurs sources RF. Le générateur hyperfréquence assure également un chauffage du substrat à très basse température, à la fois efficace sur le plan énergétique et uniforme sur l'ensemble du substrat, évitant ainsi des dommages thermiques au substrat. D'autres caractéristiques avancées de l'actif comprennent des dispositifs de sécurité avancés, l'étalonnage automatique de la hauteur et de la température du suscepteur, et le contrôle de la température en boucle fermée. Toutes ces caractéristiques font d'AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT Reactor l'un des systèmes de dépôt les plus avancés et les plus fiables pour les applications avancées de semi-conducteurs.