Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9281276 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Producteur GT Reactor est un outil utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour réaliser des surfaces avec des modifications telles que la croissance de couches minces, la gravure et le dépôt. Cet équipement permet une manipulation précise des surfaces afin de créer les propriétés de matière souhaitées. Le système est basé sur la plate-forme d'une source de « plasma inductif couplé » (ICP), fournissant un plasma uniforme sur l'ensemble de l'échantillon. Le réacteur GT dispose également d'une source ICP, alimentée par l'énergie RF transmise à la source par une bobine inductive. La source du PIC permet des densités de courant plus élevées que les sources de plasma traditionnelles, ce qui permet une plus grande souplesse dans les paramètres du processus. Le réacteur AMAT Producer GT permet de placer de façon précise plusieurs sources d'énergie en même temps, de manière à ce que les modifications souhaitées puissent être réalisées efficacement tout en minimisant le « cocktail » ou le mélange des matériaux. Le placement précis des sources permet également de contrôler le processus, ce qui permet d'apporter des solutions sur mesure à l'architecture de chaque appareil. De plus, le réacteur GT dispose d'une configuration basse pression/haute conductance pour limiter les réactions en phase gazeuse, et d'une capacité de gaz oxydant pour assurer une croissance adéquate des oxydes avec de faibles taux de contamination. Le réacteur GT dispose d'une unité de contrôle du débit de gaz qui permet à l'opérateur de réguler la température du processus ainsi que la dynamique du débit de gaz, ce qui permet un fonctionnement fiable et la production de produits avec les géométries et les propriétés souhaitées. La machine à flux de gaz permet également à l'opérateur de varier les pressions de gaz, l'oxydation et d'autres conditions pour créer des couches minces. Cela facilite un haut degré de contrôle de processus caractéristique des outils Process Chamber. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT Reactor utilise également la source ICP pour produire un plasma haute densité pour les processus de gravure. Cela aide à réduire les budgets thermiques en permettant des taux de gravure élevés tout en maintenant la formation de sous-produits de gravure sur la surface à un minimum. De plus, le réacteur GT dispose d'un outil « Front End Load Lock », permettant de réaliser des échanges faciles de plaquettes d'outillage sans casser le vide. Les plaquettes peuvent rapidement et facilement être déplacées à l'intérieur et à l'extérieur de l'outil sans sacrifier l'intégrité, ce qui permet une polyvalence du processus et un ajustement continu aux besoins de production changeants. Producteur GT Reactor est un outil de pointe utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour réaliser avec précision des surfaces aux propriétés de matériaux souhaitées. Il est basé sur une source ICP, permettant des densités de courant plus élevées et le placement précis de multiples sources d'énergie adaptées aux modifications de la croissance des couches minces à la gravure. Le réacteur GT comprend un actif de contrôle du débit de gaz, des serrures de chargement avant et une configuration basse pression/haute conductance pour assurer un fonctionnement fiable et minimiser la contamination. Utilisant la source ICP, il est capable de fournir des taux de gravure élevés, idéal pour les exigences avancées de fabrication d'appareils.