Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610775 à vendre en France
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Vendu
ID: 293610775
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2015
PECVD System, 12"
Process: TEOS
(4) SELOP Load ports
FOUP: (25) Wafers
FX Robot
0200-08346 Robot blades
0090-04659 Load lock preheater
9992-00594 Slit valve door
EBARA ESR 80WN MF Pump
Laod lock pump: EPX 180 Twin dry vacuum pump (P/N: 3620-00517)
0190-37371 Diffuser
KASHIYAMA SDE1203B Process pump
Chamber:
Type: PE Silane
0920-00139 RF Generator
0190-08677 RF Generator
0010-36734 Heater
9992-00594 Slit valve
0010-42371 RF Filter
0190-32100 Foreline TV
3870-06775 Foreline ISO
0040-53688 Gas box
0040-95475 Faceplate
0021-26544 Blocker
(2) Pumping liner sides (P/N: 0200-02407; 0200-02408)
0200-06758 Liner ceramic top
0200-02973 Liner ceramic middle
0200-02974 Liner ceramic bottom
0021-27290 Ceramic isolator
0200-03314 Lift pins
0200-03312 Lift hoop
(2) Sapcer sides (P/N: 0021-24181; 0021-24182)
0190-40602 RPS
Gas box:
Line / Gas / Size
3 / TEOS-1 / 7000
4 / TEOS-2 / 7000
6 / NF3 / 5000
8 / Ar / 10000
9 / He-TEOS / 15000
12 / O2 / 15000
18 / Purge02 / -
19 / Purge03 / -
Liquid line temperature:
TEOS-1, 2 Injection: 150°
Heated line-2, 3, 4, 5, 6, 7: 120°
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 208 VAC, 3-Phase
2015 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT3 est un réacteur avancé de dépôt chimique thermique en phase vapeur qui est bien équipé pour aider les utilisateurs à répondre à leurs besoins de dépôt de substrats. Cet équipement de dépôt de pointe est capable de produire des films de haute qualité de nombreux matériaux, dont le silicium monocristallin, le germanium, le carbone et le diamant. Il dispose d'un contrôle précis des processus, d'une grande variété de processus thermiques et de capacités de contrôle d'uniformité étroites. AMAT Producer GT3 est conçu avec une chambre de process de 10 cm de diamètre et 20 cm de hauteur, ce qui le rend hautement personnalisable et parfait pour une large gamme d'applications. Un équipement de transfert thermique efficace aide à maintenir une température de substrat constante, ce qui est essentiel pour obtenir un dépôt de film de qualité. Ce réacteur offre également une gamme de procédés préprogrammables, permettant aux utilisateurs d'affiner leur dépôt de film pour un contrôle final. Pour garantir des résultats fiables et reproductibles, le GT3 intègre un système de recuit thermique rapide dans le plan du substrat afin de minimiser les contraintes indésirables entre les couches de matériau. Cette unité de réacteur est également équipée de la technologie brevetée AMAT Arc Control, conçue pour obtenir des dépôts supérieurs à des températures encore plus basses que les procédés CVD typiques. En plus d'être utilisé pour le dépôt avancé de substrats, APPLIED MATERIALS Producteur GT3 est conçu pour accueillir une large gamme de matériaux, y compris des matériaux III-V pour le développement de dispositifs semi-conducteurs de puissance. La machine dispose également de commandes de pointe pour la polarisation des électrodes, ce qui est essentiel pour la mise au point de matériaux performants. La source d'ions large présente dans le GT3 permet le dépôt simultané de deux matériaux différents. Ceci est particulièrement utile dans la réalisation de dispositifs électriques, dans lesquels la combinaison de deux matériaux peut conduire à des résultats supérieurs. De plus, le réacteur est équipé d'un dispositif de rectification de l'angle du conducteur chauffant, permettant aux utilisateurs de manipuler avec précision l'impédance de chauffage du substrat. Le producteur GT3 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur qui offre des performances fiables et de nombreuses capacités personnalisables. Avec sa large gamme de procédés thermiques, ses électrodes avancées et son contrôle d'homogénéité serré, le GT3 est un choix idéal pour ceux qui recherchent un dépôt de film de qualité.
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