Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610776 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT3 est un réacteur de pointe de type PECVD (dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma). Il est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le dépôt de couches diélectriques et métalliques sur des plaquettes de silicium. Il est également utilisé pour d'autres applications telles que le photovoltaïque solaire, les dispositifs médicaux et l'électronique sophistiquée. AMAT Producer GT3 est un outil efficace et polyvalent. Il est de conception modulaire avec deux chambres, une chambre source et une chambre de réaction. Cette disposition sépare le traitement du gaz précurseur et du plasma du procédé de dépôt. Le réacteur est capable de chimiographies à basse pression et à pression atmosphérique, ce qui permet une large gamme de taux de dépôt et de conditions plasmatiques. Il est conçu pour être conforme à la surveillance de la température, de la pression et du débit de gaz, assurant un contrôle précis et des résultats cohérents. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT3 est équipé d'un magnétron haute densité et d'une source de plasma de refroidissement diélectrique. Cette conception avancée améliore l'uniformité, la répétabilité et la qualité des dépôts. De plus, il donne au réacteur la capacité de manipuler de grandes tailles de substrat. Le revêtement en céramique haute température et les dispositifs de chauffage haut de gamme produisent des nitrures et des oxydes de haute qualité, ce qui en fait un excellent choix pour les systèmes diélectriques profonds UV et à haut Q. Il fournit également un environnement d'exploitation propre pour les métaux sensibles et d'autres architectures électroniques. Le producteur GT3 est capable de réaliser plusieurs procédés de dépôt. Il est utilisé pour un large éventail de procédés, y compris la métallisation, le CVD, le PVD (dépôt physique en phase vapeur), l'ALD (dépôt de couche atomique) et le MOCVD (dépôt chimique en phase vapeur métallique). Le réacteur est capable d'obtenir des épaisseurs de film allant de 10 nm à plus de 5 microns, ce qui en fait un excellent choix pour la fabrication de dispositifs avancés. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur GT3 est également capable de réaliser un large éventail de processus thermiques, y compris le recuit thermique rapide et le traitement thermique rapide. Il est idéal pour le recuit photorésist pour améliorer le débit et la fiabilité du processus. De plus, sa capacité à haute température assure un bon contact des plaquettes et une croissance homogène des films. En conclusion, le réacteur AMAT producteur GT3 PECVD est un outil puissant et polyvalent. Il a une large gamme d'applications, y compris le dépôt de couches diélectriques et métalliques ainsi que plusieurs autres procédés avancés. C'est un outil efficace, fournissant un contrôle précis et des résultats cohérents. C'est un excellent choix pour la fabrication d'appareils électroniques avancés.