Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #149570 à vendre en France

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Photo Utilisé AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III À vendre
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Vendu
Réacteurs
Fabricant
AMAT / APPLIED MATERIALS
Modèle
Producer III
ID: 149570
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2002
CVD system, 12" Process: BPSG Wafer shape: SNNF Chamber A: SACVD-TWIN Chamber B: SACVD-TWIN Line voltage: 200 / 208 VAC Line frequency: 60 Hz Phase: 3 phase AC P/N: 0180-01905 EMO switch type: turn to release EMO Smoke detector: no Chamber A: BPSG Controllers: Chamber set interface: yes SPX MUXADIO110: yes Chamber set power supply: yes Chamber set interconnect assembly: yes GP SPX MUXADIO110: yes GP interface BD: yes Other controller: WATLOW temperature controller: yes Heater RF filter: yes EV manifold: yes Thermocouple: yes 5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes Heater lift assembly: Heater base: yes Lead screw assembly: yes Motor: yes Heater lift bellows: yes Lift pin assembly: Lift pin assembly: yes Lift ceramic ring: yes Lift pin bellows: yes Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes Fore line assembly: Throttle valve: yes Isolation valve: yes Pirani gauge: yes Heating jackets: yes RGA port NW25: yes Fore lines: yes Pressure gauge: MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes MKS 627A-12338, 20 torr: yes MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes Chamber B: BPSG Controllers: Chamber set interface: yes SPX MUXADIO110: yes Chamber set power supply: yes Chamber set interconnect assembly: yes GP SPX MUXADIO110: yes GP interface BD: yes Other controller: WATLOW temperature controller: yes Heater RF filter: yes EV manifold: yes Thermocouple: yes 5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes Heater lift assembly: Heater base: yes Lead screw assembly: yes Motor: yes Heater lift bellows: yes Lift pin assembly: Lift pin assembly: yes Lift ceramic ring: yes Lift pin bellows: yes Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes Fore line assembly: Isolation valve: yes RGA port NW25: yes Pressure gauge: MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes MKS 627A-12338, 20 torr: yes MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes Gas panel and pallet: Mainframe type: Producer III 12" Gas feed (top): yes System cabinet exhaust (top): yes MFC: Celerity UFC 8160 metal digital MFC's: yes LFM: STEC HORIBA LF-A410A-EVD 7.0: yes STEC HORIBA LF-A410A-EVD 1.5: yes STEC HORIBA LF-A310A-EVD 0.5: yes Injection valve: STEC HORIBA: yes Valve: FUJIKIN 5 RA max: yes Filter: MILLIPORE 5 RA: yes MYCROLIS O3 GS line: yes SLD (single line drop): no SLD valve type: FUJIKIN diaphragm: yes Veriflo 10 RA regulator: yes MKS LDMB12PA2CC1 transducer with display: yes Smoke detector photohelic: yes Generic facilities / scrubber interface: yes Facilities interlock indicator: no Interface output (fault): yes Display gas pallet: yes Chamber A gas pallet: SA-BPSG Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD 1: O3 2: O2, 30 slm 3: N2 purge 4: NF3, 5 slm 5: N2, 3 slm 6: AR, 10 slm 7: 8: N2, 30 slm 9: HE, 30 slm 10: N2 purge Chamber B gas pallet: SA-BPSG Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD 1: O3 2: O2, 30 slm 3: N2 purge 4: NF3, 5 slm 5: N2, 3 slm 6: AR, 10 slm 7: 8: N2, 30 slm 9: HE, 30 slm 10: N2 purge System placement: stand alone EV mainfold: yes System controller: Facilities UPS interface: yes MF controllers: Chamber set interface: yes SPX MUXADIO110: yes Maintenance switch: yes MF DC power supply assembly: yes VME rack: 1: SBC 15: serial / video 16, 17: HDD 19, 20: FDD DVD: yes FDD: yes Load locks: Load lock lift assembly: Motor Lead screw assembly Bellows Lid assembly: Wafer sliding sensor Lid cover Fore line assembly: Isolation valve Fore lines LL door assembly: VAT valve assembly Slit valve assembly: slit valve with Kalrez seal Transfer chamber (buffer): Robot type: VHP dual Wafer sensing type: wafer pocket sensor EDWARDS IPX100 pump Isolation valve Pirani gauge RGA port, NW25 Fore lines Slit valve assembly: Slit valve with Kalrez seal Assembly Signal lamp tower: Tower locations: front and rear mounted Lamp colors: red, amber, green blue Number of lamps per tower: (4) Fab interface: standard GEM interface Factory interface: Front end interface: 12" FI 2 load ports Path through: yes Robot type: NEWPORT KENSINGTON POD 1 and 2 Facility: mainframe gas lines MF N2 regulation: regulated 80 PSI Remote systems: HX 300 W/C heat exchanger: yes HX 300 chiller for ozonator: yes System monitors: Monitor type: VGA with light pen, through the wall 2002 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur III est un équipement de réacteur conçu pour la recherche et le développement de procédés semi-conducteurs. AMAT Producer III fournit des résultats de traitement de haute qualité tout en assurant un contrôle de processus supérieur. Il est conçu pour être simple à mettre en place et à maintenir, permettant aux utilisateurs de passer rapidement d'un processus à l'autre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur III est un système de haute précision qui offre une gamme de capacités, ce qui le rend adapté à des applications allant de l'épitaxie à la nanotechnologie. Les caractéristiques comprennent une large gamme de températures, un contrôle de la pression de précision, un pompage à plusieurs étages et l'utilisation de l'acquisition de données en temps réel. L'unité assure le dépôt à haute température et le traitement des gravures, avec des températures allant jusqu'à 1100 ° C Ceci le rend apte à produire des semi-conducteurs composés, tels que le nitrure de gallium (GaN) et l'arséniure de gallium d'aluminium (AlGaAs). Le producteur III comprend un microbalance à cristaux de quartz (QCM) pour surveiller l'épaisseur du film avec une précision de 0,2 nm. Cela peut aider à déposer avec précision des films d'épaisseurs dans la gamme des nanomètres. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur III offre également une gamme de capacités avancées de contrôle de processus, y compris la capacité de surveiller les paramètres de processus tels que la température, la pression et le débit total de gaz en temps réel. La machine comprend un régulateur exothermique qui surveille la température à chaque niveau pour s'assurer que la production est optimisée. Cela permet d'assurer des performances répétables et stables pour chaque cycle de processus. Les capacités thermiques d'AMAT Producer III sont également bien adaptées à la gravure à sec à pression ambiante. Ceci implique l'utilisation de la puissance RF pour enlever le matériau à des températures élevées, permettant d'obtenir des profils de gravure précis et des profils sans sous-gravure. L'équipement offre une large gamme d'options de processus, y compris la possibilité de recuit des caractéristiques dans une atmosphère contrôlée et d'effectuer un traitement sélectif de gravure de zone. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur III est un outil robuste qui offre une gamme de capacités de processus, permettant aux utilisateurs d'explorer un large éventail d'applications sans avoir à investir dans de multiples systèmes de dépôt et de gravure. Il est idéal pour les applications de recherche et de traitement à semi-conducteur, car il offre une grande précision, répétabilité, et offre des délais de traitement rapides.
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