Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9091079 à vendre en France
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Vendu
ID: 9091079
SACVD System, 8"
(2) Twin chambers, RPC clean
Platform: Split
SACVD: TEOS, TEB, TEPO process SiO2, PSG, BPSG
RPC Chamber Clean: MKS ASTRON-2L
4 color signal tower: (Red-Yellow-Green-Blue)
Mainframe Seriplex BD: 0090-00475 Rev-P1
MF Interface BD: 0100-00752 Rev-003
Cassette Loader:
PRI Robot: Front End Manual Type 200mm: ATM407B-1-S Brooks Auto
PRI Robot Controller: ESC-200-OTF-110: CTL-27900
Filter Assy: MAC10ULPA 11057002
Load-Lock Chamber:
Index Motor Driver: 5-Phase UDK5128NW2
Left Loadlock: 6 Slot / 200mm
Right Loadlock: 6 Slot / 200mm
Left LL Pressure Gauge: 901P-41-0030
Right LL Pressure Gauge: 901P-41-0030
Pumping Line Pressure Gauge: EDWARD APG-L-NW15
Cassette Door Left: VAT 0750X-UE24-AAL7 / 1522 / A-646946
Cassette Door Right: VAT 0750X-UE24-AAL7 / 1522 / A-646946
Wafer Position Sensor: Keyence PS-55
Buffer Chamber:
VHP Robot: VHP Dual Blade Type 200mm
VHP Robot Driver: 0190-02472 Rev-001
IPX-100 Pump: missing
Purge/Vent MFC: FC-2902 5000 sccm
Pressure Gauge: 275 Mini-Convectron Granville-Phillips
Chamber A:
Chamber Set Interface 0015-00421 Rev-P1
Chamber Seriplex BD 0190-35652 Rev-P1
Heater Type HEATER,CERAMIC,NGK,DIMPLED,COMMON 200 MM HA12(Base: 0040-61269)
Heater Material ALN Ceramic
Heater Lift Motor Driver 5 Phase UDK5214NW
Lid Cover Switch ALCO PUSH Button
Heat Exchanger Water Flow Switch Proteus 9AMHXCHP2 / 0015-00649 Rev-001
RF/ OZONE Generator ASTEX 8403A
RPS MKS ASTRON-2L
Gas Panel Configuration:
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEB 3030-09436 LFM LF-410A-EVD TEB 0.5g/MIN F.S.
TEPO 3030-07719 LFM LF-310A-EVD TEPO .25G/MIN F.S.
TEOS 3030-07663 LFM LF-410A-EVD TEOS 4G/MIN F.S.
TEB Injection Valve 0190-36236 VALVE, INJECTION 208V TEB 120C STEC
TEPO/TEOS Injection Valve 0190-36237 VALVE, INJ. 208V TEPO/TEOS 150C STEC
Final Filter GLFPF6101VXM4AM
In Line Gas Filter WG3NS6RR2 / WFRGD3NF-30 3.31"LG
Transducer 852B-13384 : 12ea
LDM LDM-B12PA2CC1 : 12ea
NF3 Interlock Gauge 41A12DCA2BA050 / 100 Torr
Gas Panel I/O Dist GPLI 0100-00259 P4
Gas Panel Seriplex BD 0190-35653
Chamber B:
Chamber Set Interface 0015-00421 Rev-P1
Chamber Seriplex BD 0190-35650 Rev-P1
Heater Type HEATER,CERAMIC,NGK,DIMPLED,COMMON 200 MM HA12(Base: 0040-61269)
Heater Material ALN Ceramic
Heater Lift Motor Driver 5 Phase UDK5214NW
Lid Cover Switch ALCO PUSH Button
Heat Exchanger Water Flow Switch Proteus 9AMHXCHP2 / 0015-00649 Rev-001
RF/ OZONE Generator ASTEX 8403A
RPS MKS ASTRON-2L
Gas Panel Configuration:
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEB 3030-09436 LFM LF-410A-EVD TEB 0.5g/MIN F.S.
TEPO 3030-07719 LFM LF-310A-EVD TEPO .25G/MIN F.S.
TEOS 3030-07663 LFM LF-410A-EVD TEOS 4G/MIN F.S.
TEB Injection Valve 0190-36236 VALVE, INJECTION 208V TEB 120C STEC
TEPO/TEOS Injection Valve 0190-36237 VALVE, INJ. 208V TEPO/TEOS 150C STEC
Final Filter GLFPF6101VXM4AM
In Line Gas Filter WG3NS6RR2 / WFRGD3NF-30 3.31"LG
Transducer 852B-13384 : 12ea
LDM LDM-B12PA2CC1 : 12ea
NF3 Interlock Gauge 41A12DCA2BA050 / 100 Torr
Gas Panel I/O Dist GPLI 0100-00259 P4
Gas Panel Seriplex BD 0190-35762
VME Controller:
#1 SBC BD V452 0090-76133 Rev A
#2 Radisys BD Radisys AMAT P133 0660-01857
#3 Unused -
#4 Unused -
#5 MEI-2 BD 0190-00387 A010-008 Rev 5
#6 Unused -
#7 MEI-1 BD 0190-00387 A010-008 Rev 5
#8 Unused -
#9 I/O Expansion BD 0090-76040
NT Hard Disk Seagate ST34520N
CD-ROM Use
NT Floppy Disk 3.5"
Legacy Hard Disk 0190-00405
Legacy Floppy Disk 3.5" SCSI FD235HF C700-U 193077C7-00
VME P2 Distribution BD 0100-00430
Loadlock Left Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Loadlock Right Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#A1 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#A2 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#B1 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#B2 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Active Wafer Sensor Keyence PZ2-41
Latest Software Version B3512
Currently de-installed.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur III est un réacteur de production avancé utilisé pour la production et l'achat de semi-conducteurs. Ses caractéristiques avancées en font l'un des réacteurs de production les plus fiables et efficaces disponibles. AMAT Producer III comprend un lecteur RF, un générateur de fréquence, des alimentations haute tension, un scanner laser et des alimentations basse tension. Tous ces composants travaillent ensemble pour optimiser les processus de production, en améliorant la répétabilité et la productivité. Le lecteur RF permet des taux de dépôt élevés avec une large gamme d'étapes de processus, tandis que le générateur de fréquence contrôle la tension et la puissance fournies au réacteur. Le scanner laser régule la quantité de matériau qui est déposée sur la plaquette. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur III fournit une uniformité dans les dépôts de matériaux avec un système de contrôle du débit actif qui est réglé dynamiquement afin de maintenir le niveau de matériau correct sur la plaquette. Ce système assure également la répétabilité des procédés de dépôt et de gravure. Le producteur III comprend en outre un système de surveillance de la pression, qui permet un meilleur contrôle des procédés et une meilleure qualité des produits. AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur III est également conçu pour la production à haut débit et les procédés à haute température. Son susceptor a des conceptions spéciales qui réduisent la contamination et permettent des temps d'échauffement rapides. Le suscepteur permet également une plus grande homogénéité du matériau sur la plaquette. AMAT Producer III est idéal pour produire toutes sortes de matériaux, que ce soit pour des plaquettes monolithiques, des semi-conducteurs composés, ou même des matériaux avancés. Il peut être utilisé avec divers gaz, allant de l'hydrogène au tétrafluorure. Il est également conçu pour être compatible avec tous les types de produits semi-conducteurs, de sorte que les producteurs savent qu'ils seront en mesure de traiter tout le matériel dont leurs clients ont besoin. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur III est conforme à toutes les normes de l'industrie, offrant aux utilisateurs une fiabilité améliorée et des performances de premier ordre. Il comprend un ensemble complet de dispositifs de sécurité qui protègent les opérateurs et garantissent que tout processus est aussi efficace que possible. Ses caractéristiques offrent également aux fabricants la capacité de répondre à toutes leurs exigences de production. Le producteur III est un réacteur de production très fiable et efficace qui fournira aux utilisateurs la précision et la répétabilité nécessaires pour répondre à leurs besoins. Avec sa capacité à traiter divers matériaux et sa conception flexible et polyvalente, il est sûr de répondre aux exigences de tous les types de fabricants de semi-conducteurs. Lorsque vous recherchez un réacteur de production qui répond au plus haut niveau de performance et de fiabilité, AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III est le choix idéal.
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