Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9092388 à vendre en France
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Vendu
ID: 9092388
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2001
BPSG System, 8"
Wafer shape: SNNF
Mainframe: Producer Split
SMIF: manual
Ozone generator: Astex
System controller UPS option: no
(2) Chambers: BPSG
Heater: ceramic
Clean method: remote plasma
Manometer: Dual 20/100 Torr
Chamber wall: 11.484 o-ring
Gas Delivery
MFC type: Unit 8160
Valves: Fujikin 5 Ra Max
Filters: Pall
Transducer: MKS w/o display
Regulators: Parker
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEOS STEC
TEPO STEC
TEB STEC
Electrical requirements: 200/208V, 50/60Hz, 240A
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur III est un réacteur multi-processus à haut rendement et à haut débit conçu pour fournir une gamme d'applications de films et d'appareils. Il est doté d'un design trois zones breveté avancé, permettant un réglage précis du processus et une excellente uniformité de fabrication. Le réacteur dispose d'un positionneur automatisé à deux axes, ce qui facilite le contrôle du procédé et l'uniformité dans toute la zone d'intérêt. En outre, l'arbre de support auto-réglable et les angles d'inclinaison réglables offrent une plus grande flexibilité pour le traitement. Les vannes de contrôle de gaz et de processus offrent un réglage précis et un fonctionnement indépendant, tandis que la gestion intégrée de la température de l'équipement ajoute à la stabilité du processus. De plus, le système de contrôle de pointe assure la polyvalence et la facilité d'utilisation de l'outil. Ce réacteur avancé dispose également d'une nouvelle unité de verrouillage de l'électrode à la fixation qui assure une stabilité et une précision maximales dans la chambre de réaction lors de la fabrication. De plus, la machine de contrôle et de gestion de la température en boucle fermée permet au réacteur d'atteindre les températures souhaitées rapidement et avec précision. L'outil de diagnostic et de maintenance intégré, qui offre une capacité en temps réel, garantit une efficacité maximale du processus avec un temps d'arrêt minimal. La conception de la chambre propre assure un processus de production sans contamination, rendant le réacteur adapté à une gamme d'applications dans le traitement des semi-conducteurs, des couches minces, optoélectroniques, chimiques-mécaniques et sous vide. Il prend également en charge plusieurs applications qui bénéficient d'une grande uniformité et de capacités de haut débit. Il s'agit du dépôt métallique, de la gravure, de l'oxydation, de la nitridation du silicium, de l'oxy-nitridation du silicium, du dépôt de BPSG, du dépôt et de la passivation du SiO2, du traitement par évaporation des couches minces, du dépôt de nitrure, de l'oxydation thermique et de l'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE). En résumé, AMAT Producer III est un réacteur fiable et polyvalent, capable de fournir une fabrication précise et à haut débit pour une variété d'applications minces, optoélectroniques et de procédés. Il est doté d'un design avancé à trois zones, d'un positionneur à deux axes, d'angles d'inclinaison réglables, d'une gestion intégrée de la température et d'un outil de contrôle en boucle fermée, ce qui en fait un choix idéal pour les professionnels de la fabrication.
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