Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9209863 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur III est un outil de haute performance PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) conçu pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. Il est capable de déposer des couches minces de matériaux diélectriques, métalliques, nitrures et autres sur des substrats semi-conducteurs. L'équipement AMAT Producer III est conçu en double chambre, ce qui permet de réaliser des dépôts multicouches très efficaces. La première chambre contient le loadlock du substrat et les deux sont des chambres. La deuxième chambre abrite la chambre à plasma et ses sources magnétron définies par l'utilisateur, permettant un contrôle précis de l'épaisseur et de l'homogénéité de la couche. Le système fonctionne selon un contrôleur logique programmable pour un rendement élevé et un dépôt uniforme. Il offre des cadences de production élevées et peut être configuré pour jusqu'à cinq substrats différents. L'unité utilise deux sources de plasma à résonance cyclotron électronique (ECR) ou RF afin d'obtenir une vitesse de dépôt et une uniformité plus élevées. Les sources RF permettent d'ajuster un large éventail de paramètres de processus, notamment : Fréquence RF, puissance RF, tension de polarisation et pression. De plus, les sources de plasma ECR permettent des taux de dépôt extrêmement élevés, tout en conservant une structure de film uniforme et lisse. La machine offre également un contrôleur temps réel avec contrôle des pressions de la chambre, des températures et du contrôle des contraintes. Il permet également un contrôle précis de la concentration en gaz réactif et des débits. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur III est conçu avec une multitude de dispositifs de sécurité pour un fonctionnement fiable, y compris un outil de surveillance 24/7 qui va arrêter l'outil en cas de danger potentiel. L'outil dispose également d'un outil programmable pour assurer un fonctionnement sûr, tandis que les capteurs de température et de pression aident à maintenir le contrôle du processus. Le contrôle de la contamination est extrêmement faible grâce au modèle de filtration à haut rendement. En outre, l'équipement peut être surveillé à distance, ce qui permet aux utilisateurs d'effectuer des réglages rapidement et facilement. Dans l'ensemble, le producteur III est un système PECVD très efficace et fiable équipé de nombreuses fonctionnalités et systèmes de sécurité. Grâce à sa conception à double chambre et au contrôle des sources de plasma RF et ECR, il est capable de déposer des couches très homogènes et lisses de divers matériaux sur des substrats. C'est un excellent choix pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, en raison de sa vitesse de dépôt élevée et de son excellent rendement.