Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9238404 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur III est un réacteur conçu pour la gravure et le dépôt de matériaux par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour la production de plaquettes semi-conductrices III-V et quartz. C'est une machine à grande échelle dont la chambre de travail mesure 25,6 cm (10 pouces) de longueur. Le réacteur contient deux chambres principales : la source et le plasma, qui déposent des couches de matériau dans les épaisseurs souhaitées. La chambre source est équipée d'un maximum de quatre précurseurs chimiques et contient un bulleur, un élément chauffant, un distributeur, une tête de douche et un générateur RF. La chambre à plasma contient des plasmas haute fréquence qui sont générés par une antenne coaxiale placée dans le haut de la chambre. Le gaz de sortie est ensuite filtré et pompé à travers la tête de douche comme une vapeur uniforme et stable. Les particules entrent alors en collision avec la surface de la plaquette en déposant les matériaux désirés. AMAT Producer III utilise la cartographie multidimensionnelle des procédés pour contrôler précisément la vitesse de gravure de l'épaisseur de la plaquette ou de la couche. Il dispose d'un système de contrôle pour permettre des processus de gravure répétables et peut être modifié avec précision pour répondre aux besoins spécifiques des clients. Le réacteur a été conçu pour la capacité de traitement par lots et monobloc. Les sas de la chambre permettent un chargement et un déchargement aisés des plaquettes, ce qui améliore la productivité. En outre, le PRODUCTEUR DE MATÉRIAUX APPLIQUÉS III a été équipé d'une gamme complète de systèmes de protection pour assurer un fonctionnement sûr. Il s'agit notamment de la détection des gaz inflammables, de la surveillance à basse température et des systèmes d'arrêt d'urgence. En conclusion, le producteur III est un réacteur efficace et fiable utilisé pour la gravure et le dépôt des matériaux. Il utilise la cartographie multidimensionnelle des processus pour assurer un contrôle précis de la vitesse de gravure et de l'épaisseur de la couche. Il a été conçu pour les capacités de processus par lots et monobloc avec une gamme complète de caractéristiques de sécurité. Ce système réactionnel donne des résultats cohérents et de qualité pour la production de couches semi-conductrices III-V et quartz.