Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer S #9296926 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Producer S
ID: 9296926
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
CVD System, 8" 2000 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur S est un système de réaction multi-chambres, de type fractionné, qui permet une variété de procédés industriels, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le dépôt de nanofils, le dépôt de couches minces et la photovoltaïque. Le réacteur se compose de trois chambres : une chambre de pré-évacuation, une chambre d'ultra-haute dépression, et une chambre de loadlock. L'agencement peut être facilement adapté à différentes applications, avec l'ensemble du système capable de s'installer dans un seul espace de référence de moins de 10pi (3m). La chambre de pré-évacuation est utilisée pour pomper la pression de la chambre de serrure et de la chambre à ultra-haute dépression. Il sert également à introduire un vide à basse température pour faciliter le dépôt. La chambre de serrure est conçue pour permettre le chargement de supports de substrat dans la chambre à vide ultra-haut sans casser le vide, de sorte que le vide ultra-haut peut être maintenu. La chambre à loadlock est chauffée à environ 85 degrés Celsius, aidant à la désorption du substrat et réduisant la génération de particules. La chambre à vide ultra-haute est capable d'atteindre des pressions allant jusqu'à 2x10-7torr. C'est dans cette chambre qu'aurait lieu le dépôt proprement dit. La chambre de réaction est équipée d'un port de vision en quartz blindé, d'un collecteur de gaz, d'une traversée électrique, de lampes à haute intensité et d'un conteneur pour ioniser l'atmosphère. Cette chambre est destinée à accepter différents types de supports, tels que des porte-plaquettes et des porte-substrat, pour permettre la manipulation et le dépôt de substrat. AMAT PRODUCERS permet diverses technologies de pointe, y compris le dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PEVCD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et la pulvérisation par pulvérisation. Ces procédés facilitent le dépôt de couches minces sur des plaquettes et substrats de silicium, la création de nanoparticules et de nanostructures et le dépôt de couches métalliques, semi-conductrices et diélectriques. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS PRODUCER-S est un réacteur très polyvalent capable d'un large éventail de procédés industriels dans une conception unique et peu encombrante. La configuration permet au processeur d'atteindre les pressions, températures et niveaux de vide requis pour les procédés de fabrication avancés tout en maintenant un système sûr et fiable.
Il n'y a pas encore de critiques