Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE APF #293649954 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur SE APF est un réacteur révolutionnaire conçu pour les procédés de dépôt de couche atomique (ALD). C'est un système très efficace et complet pour la fabrication de semi-conducteurs et d'autres dispositifs. Le réacteur AMAT Producer SE APF est capable de produire des couches uniformes et conformes avec une précision et une répétabilité sous-nanométriques. Le réacteur est un système de traitement monobloc avec une source de plasma encastrée et un dépôt uniforme à travers une plaquette. Il comprend une source de plasma ultra haute densité, des commandes de précision automatisées et une chambre à vide. La source de plasma ultra haute densité est utilisée pour des applications avancées de dépôt de matériaux et de gravure. Il fournit une haute densité de puissance, plasma haute énergie qui fournit le contrôle du processus et une excellente uniformité. Il dispose également d'un contrôle plasma numérique haute résolution pour le contrôle de précision du dépôt et de la gravure des matériaux. La source intégrée permet une surface de traitement uniforme en élévation avec une précision de dépôt sans précédent. Les contrôles de précision automatisés comprennent un contrôleur intelligent qui peut contrôler avec précision les paramètres du processus. Cela permet d'obtenir des résultats cohérents et reproductibles quelle que soit la taille de l'échantillon ou de la plaquette. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur SE APF du producteur comprend également une interface utilisateur sophistiquée et un système de contrôle avancé qui permet d'optimiser les paramètres du procédé à chaque étape des processus de dépôt et de gravure. La chambre à vide est construite avec un métal usiné ultra-précis et une fenêtre optique en quartz de haute qualité. Il offre une excellente résistance à la dilatation thermique, à la corrosion due aux produits chimiques agressifs et à la contamination. La chambre permet une automatisation complète des processus de dépôt et de gravure, et permet un débit plus élevé avec une contamination minimale. Ce réacteur haute performance offre un dépôt et une gravure ultra précis pour les industries semi-conductrices. Le contrôle numérique à haute résolution permet de fabriquer des matériaux avancés avec précision et répétabilité. La source intégrée assure un dépôt uniforme sur l'ensemble de la plaquette, et les contrôles de précision automatisés permettent d'optimiser les paramètres du processus. Avec toutes ces caractéristiques, le réacteur SE APF producteur est un excellent choix pour la fabrication de dispositifs.