Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer XT #9208802 à vendre en France

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ID: 9208802
Taille de la plaquette: 12"
Dielectric etcher, 12" Mainframe type: Platform: Producer eXT MF Server type: FE: 306M FI: 306M RT: SBC Chamber type: A: (EO2) - Dielectric etch twin XT C: (EO2) - Dielectric etch twin XT Process: Oxdie FI Robot type: YASKAWA AT Robot, P/N: 0190-14738 Controller, P/N: 0190-27387 Robot type: VXP Materials: Aluminum Robot, P/N: 0010-30160 Controller, P/N: 0190-10119 / 0190-10118.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur XT producteur est une chambre avancée de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) améliorée par plasma conçue pour offrir des rendements améliorés, des économies de coûts et une fiabilité du produit final. Le procédé PECVD produit des couches minces et très uniformes de couches de films diélectriques et conformes dans une gamme de matériaux semi-conducteurs et optoélectroniques. La chambre AMAT Producer XT offre une capacité de traitement accrue avec sa plus grande surface de travail, des puissances de source plus élevées et une meilleure stabilité de la température. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La chambre de production XT se compose d'une tête de douche, d'une porte de bras de levage alimentée, d'une source de plasma sans hydrocarbures et de la chambre à vide de base. Un réchauffeur RF alimente la tête de douche du procédé, permettant le processus de dépôt en phase vapeur avec des puissances de source plus élevées pour améliorer la qualité et l'uniformité des films PECVD. La source de plasma sans hydrocarbures permet des capacités de vitesse de dépôt plus élevées avec une uniformité d'épaisseur améliorée sur une gamme plus large d'épaisseurs de film. La chambre à vide de base a une pression maximale de seulement 1Torr (133Pa), permettant un excellent dépôt de couches minces avec des températures réduites. En termes de caractéristiques, le réacteur Producteur XT offre une excellente uniformité des plaquettes sur toutes les surfaces exposées, un taux de décantation rapide de 1 400 um/min et un équipement entièrement automatisé de transfert et de chargement des plaquettes. Les interfaces utilisateur sont conçues pour être intuitives et le système dispose d'un large éventail de paramètres personnalisables pour répondre aux exigences des différents processus. Il a également été conçu dans le but de maximiser le rendement et le débit de l'unité, offrant une productivité accrue et un moindre coût par plaquette. Pour assurer la qualité et la sécurité du procédé, le réacteur XT producteur AMAT/APPLIED MATERIALS dispose d'une gamme de caractéristiques de sécurité, dont une machine de refroidissement auto-alignée, des dispositifs d'arrêt d'urgence et une surveillance automatisée des processus. L'outil dispose également d'une gamme complète d'outils de diagnostic pour le dépannage efficace. En conclusion, le réacteur AMAT Producer XT est un actif avancé de PECVD conçu pour améliorer l'efficacité, la sécurité et la qualité du dépôt des couches minces. Son large éventail de caractéristiques et de paramètres personnalisables en font un choix idéal pour la production de matériaux semi-conducteurs et optoélectroniques.
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