Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293649500 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II est un réacteur avancé de dépôt physique en phase vapeur (PVD) conçu pour les applications de microélectronique et de fabrication de semi-conducteurs. Cette chambre améliore les plates-formes Endura II actuelles et permet en outre la création de composants plus minces et plus petits grâce à son contrôle amélioré, précision et efficacité. AMAT PVD Chamber for Endura II est conçu pour atteindre un large éventail de caractéristiques de dépôt dans un environnement dynamique et stimulant. La chambre robuste est équipée de composants avancés et de commandes, permettant une plus grande précision et répétabilité pendant le processus de dépôt. Ses commandes avancées d'alimentation et de rétroaction, assorties d'un contrôle dynamique de pression en boucle fermée, permettent une réponse rapide et un fonctionnement stable dans un large éventail de conditions d'application. La chambre présente des pressions de base aussi basses que 1x10-7 Torr, avec des joints de source fiables et une enveloppe de la chambre colonne remplie d'hélium, ce qui donne des performances exceptionnelles et des processus d'évaporation des métaux robustes. La chambre est équipée de diverses sources et systèmes de manutention du gaz, ainsi que d'un régulateur automatique de hauteur de la source et de chauffages muraux et au plafond hautement configurables. Ceci permet un contrôle précis de l'épaisseur, de la température et de l'homogénéité de la couche, avec une conformité maximale dans les difficultés de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Chambre PVD pour Endura II permet également une plus grande personnalisation du processus de pulvérisation. Ses modules de dépôt assisté par faisceau d'ions et de gravure d'ions favorisent une plus grande uniformité de pulvérisation par rapport à d'autres systèmes, en plus de taux de dépôt plus élevés, une meilleure couverture de surface et un meilleur contrôle de la composition physique et des propriétés électriques du matériau déposé. La chambre est également conçue pour une intégration facile dans les lignes de production Endura II existantes, ainsi que pour l'extension à partir des paramètres de laboratoire. La chambre PVD est fiable et très productive, avec des algorithmes d'évaporation éprouvés dans le temps et des systèmes avancés de dépôt de pulvérisation pour l'amélioration des procédés par lots. Globalement, PVD Chamber for Endura II assure un contrôle et une précision accrus dans le traitement des dépôts, ce qui permet d'obtenir des composants microélectroniques de meilleure qualité et un processus de production plus efficace. Ses caractéristiques combinées, ses éléments de précision et ses technologies de pointe permettent aux entreprises d'augmenter la précision et la rapidité de leurs lignes de production de fabrication.