Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293664709 à vendre en France

AMAT PVD Chamber est spécialement conçu pour être utilisé dans les équipements du réacteur Endura II. Cette chambre permet un accès facile à l'ensemble de l'intérieur pour une efficacité maximale tout en tenant compte d'une grande variété de tailles de substrat. Il est construit avec une douche ionique qui améliore l'homogénéité de l'éclairage et l'uniformité du film résultant sur la surface de la plaquette. La conception permet un dépôt vertical et horizontal, ce qui rend la chambre très polyvalente pour différentes applications. Un système robuste de gestion de la trempe contrôle le refroidissement et fournit une épaisseur de film uniforme dans les processus de dépôt. L'unité assure la stabilité et la répétabilité des quatre processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Il a intégré des systèmes de sécurité et le Pur Gaz Réactif De-Ioniseur (PRGD) assure aucune impureté de gaz pendant le dépôt. La chambre de réaction est également équipée d'une machine à balayage linéaire bidimensionnelle qui déplace le substrat pour une uniformité de surface accrue. La chambre a de grands poteaux de support et des piédestaux qui assurent la précision du positionnement du substrat. La chambre est capable de contrôler avec précision le dosage et le flux de matière sur le substrat, en assurant une vitesse de dépôt cohérente et prévisible. L'outil de mouvement automatisé tridimensionnel facilite l'uniformité entre les séries. L'atout offre également de la flexibilité avec l'ajout de plusieurs options personnalisées de mouvement et de refroidissement. La chambre de réaction peut être utilisée pour un large éventail d'applications. Il s'agit notamment de fabrication de circuits intégrés, d'interconnexions de composants et de traitements de surface tels que la propreté, la planarisation et l'oxydation. Il convient pour enduire une large gamme de matériaux tels que le cuivre, l'aluminium, le titane, le cobalt, le chrome, le palladium et le tungstène de recuit, avec des techniques sophistiquées telles que l'électro-dépôt, le dépôt par pulvérisation réactif, la gravure anodique et le dépôt par bombardement ionique. En conclusion, la chambre PVD MATÉRIAUX APPLIQUÉS pour le modèle du réacteur Endura II est un équipement robuste et fiable conçu pour fournir des processus précis et rapides pour une gamme d'applications. Idéal pour la recherche et le développement, il répond aux exigences industrielles en matière de stabilité, de répétabilité, de fiabilité et de procédés de dépôt très efficaces.