Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #293669533 à vendre en France

AMAT Endura PVD Chamber est un réacteur spécialisé en dépôt physique en phase vapeur (PVD) conçu pour le traitement avancé des matériaux semi-conducteurs. Cet équipement de pointe fournit la fiabilité et la fiabilité nécessaires pour traiter une large gamme de tailles et de matériaux de plaquettes, optimisant les performances et le rendement des puces et permettant une variété de processus de dépôt. La chambre Endura PVD utilise les technologies de pulvérisation magnétron et de dépôt physique en phase vapeur (iPVD) de Advanced Materials, offrant une uniformité et une fiabilité supérieures. La chambre PVD comprend un système de vide, une face cible, des zones de traitement, une zone de transfert de robot et une unité de contrôle de processus. Il dispose d'un bras robotique de haute précision avec un contrôle environnemental avancé pour le transfert et le traitement automatisés de plaquettes jusqu'à six pouces de diamètre. Cette haute performance et la stabilité permettent un haut degré de contrôle sur les propriétés des matériaux, permettant une uniformité serrée sur la grande production de roulage-à-coulé et de wafer-à-wafer de densité, d'épaisseur, de résistivité, de biais de gravure, et de couverture d'étape. La chambre Endura PVD est également conçue pour être économe en énergie et pour réduire le besoin d'entretien préventif. La machine élimine également la nécessité de systèmes de refroidissement cryogénique coûteux, qui peuvent stabiliser même les processus de température les plus élevés. La chambre comprend une source propriétaire de haute puissance emballée qui aide à réduire le besoin de changements fréquents de source, fournissant ainsi un entretien de l'équipement plus fiable et rentable. Enfin, la chambre Endura PVD dispose de systèmes avancés de contrôle des processus et de diagnostics qui aident à surveiller et à identifier les problèmes potentiels tôt, permettant une réponse rapide et des temps d'arrêt réduits. En outre, tous les paramètres de l'outil tels que la pression du procédé, la puissance et la vitesse de dépôt peuvent être contrôlés et ajustés en conséquence à partir de l'ordinateur de bord de la chambre. Combinées aux capacités diagnostiques complètes de la chambre, ces caractéristiques créent une chambre de dépôt sous vide optimisée et hautement fiable.