Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #293767111 à vendre en France

La chambre PVD pour la plate-forme Endura par AMAT est un réacteur de dépôt physique en phase vapeur (PVD) conçu pour permettre des capacités avancées de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce système offre un degré élevé de flexibilité en ce qui concerne les capacités de processus, la configuration de la chambre et la conception globale du système. La chambre PVD pour la plate-forme Endura peut être utilisée pour un large éventail de procédés de dépôt, y compris le TiN/W, le carbure de tungstène et l'oxyde d'aluminium, ainsi que d'autres matériaux plus exotiques tels que les métaux à haute température et les alliages. Sa conception cylindrique le rend très efficace et contribue à maintenir un haut degré d'uniformité sur l'ensemble de la chambre. La chambre PVD standard pour la plate-forme Endura est dotée d'un certain nombre de fonctionnalités qui rendent le processus plus fiable et efficace. Un mandrin électrostatique à grande vitesse délivre un dépôt répétable et uniforme sur le substrat. Les générateurs à double fréquence RF augmentent encore la vitesse du processus et réduisent la consommation électrique. Un viseur en quartz in situ permet de surveiller en temps réel l'ensemble du processus de dépôt, fournissant ainsi un aperçu précieux de la qualité de la couche obtenue. Une chambre à vide contrôlée par la température permet de s'assurer que la température de fonctionnement reste constante tout au long du processus. La chambre PVD dispose de multiples niveaux d'automatisation et de contrôle, permettant aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster facilement les paramètres de dépôt pendant la transition d'un processus à un autre. Un logiciel de pointe est inclus pour assurer un contrôle précis de tous les paramètres pour chaque couche et pour les lots de revêtement complets. La création automatisée de recettes de processus est également possible afin que les utilisateurs puissent commencer rapidement un nouveau dépôt sans avoir besoin d'entrée manuelle. La chambre peut également être équipée d'un certain nombre d'accessoires optionnels pour améliorer encore ses performances. Un revêtement en quartz, un support de substrat de dépôt incliné, un blindage RF et un dispositif de compensation de mouvement peuvent tous être ajoutés à la chambre PVD. Ces accessoires permettent de réduire le coût de propriété, de minimiser l'introduction de contamination et d'améliorer la cohérence des couches de dépôt. Dans l'ensemble, la chambre PVD de la plate-forme Endura est un réacteur PVD extrêmement fiable, efficace et économique. Sa conception flexible et son logiciel d'automatisation robuste le rendent adapté à une gamme d'applications et de matériaux différents. Avec l'ajout de divers accessoires, cette chambre de réaction peut améliorer le rendement du produit et la performance globale du système.