Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9202555 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura est un réacteur de dépôt physique en phase vapeur (PVD) spécialement conçu pour être utilisé avec la plate-forme Endura. La chambre est utilisée pour déposer des films semi-conducteurs minces sur des plaquettes semi-conductrices et d'autres substrats. AMAT PVD Chamber for Endura a une structure de type bocal avec un design de chargement supérieur et une chambre de chargement sous pression. La conception comprend un grand dôme inférieur et deux dômes supérieurs plus petits, qui sont utilisés pour le chargement et le déchargement des substrats. Cette conception permet un accès facile aux substrats et aux plaquettes pendant le processus de dépôt. Les chambres sont construites en acier inoxydable de haute qualité pour garantir la performance et la fiabilité. L'équipement Endura utilise également un système modulaire d'émission de champ magnétique qui permet l'injection d'un gaz dans le plasma de l'unité. Cela permet d'utiliser une grande variété de gaz, y compris des gaz inertes, réactifs et nobles, lors des dépôts. Si le gaz désiré n'est pas disponible, la machine a la possibilité pour l'utilisateur de programmer des configurations de gaz personnalisées. L'outil dispose également d'un actif facultatif d'échange de charges, qui est conçu pour minimiser la contamination des charges et maximiser l'uniformité des dépôts. La chambre contient également un certain nombre de dispositifs de sécurité intégrés tels que des capteurs pour détecter un changement brusque de pression et un dispositif de verrouillage pour empêcher le fonctionnement avec le mauvais gaz. Les dispositifs de sécurité sont conçus pour assurer un fonctionnement sûr et fiable de la chambre. En plus de la chambre, la plate-forme Endura contient d'autres composants tels que des alimentations, des contrôleurs et des connexions de traversée. La combinaison de ces composants et des matériaux appliqués PVD Chambre pour Endura permet à l'utilisateur de créer des plaquettes et des substrats de haute qualité. La capacité d'affiner les paramètres et de manipuler le processus offre à l'utilisateur la flexibilité nécessaire pour produire des matériaux personnalisés pour diverses applications. La chambre a été utilisée dans une variété d'industries, y compris les technologies des semi-conducteurs, LED, RFID et MEMS. En conclusion, PVD Chamber for Endura permet à l'utilisateur de déposer avec précision des couches minces sur des substrats avec facilité et fiabilité. La chambre a révolutionné le processus de dépôt et a permis aux utilisateurs de créer des matériaux pour diverses applications. La conception simple et modulaire de la chambre permet le réglage et la personnalisation du procédé, ce qui en fait un réacteur PVD fiable et polyvalent.