Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275254 à vendre en France
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ID: 9275254
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
12"
Process: WSI
Magnet
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Heater: 0010-27430
Adaptor: 0040-98657
Manometer: 1350-00255
ISO valve: AVT-150M-P-03
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
SAC CP 10 block board: AS0084-03
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-37254
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT 1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC
N2 100
AR 200
AR 20
Heater lift motor
Shutter motor: PK564AW2-A8
Wafer lift motor: MQMA012AF
No matcher
No defective power supply
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura est un type spécialisé de réacteur conçu pour le dépôt physique en phase vapeur (PVD). Ce réacteur utilise des précurseurs difficiles à obtenir pour déposer divers films sur de nombreux substrats, dont des métaux, des plastiques, des céramiques et du verre. AMAT PVD Chamber for Endura est un outil performant pour le dépôt de films en couche mince et uniforme. Il présente une conception à deux zones, qui permet à l'utilisateur de contrôler la température du substrat et de l'atmosphère environnante afin d'optimiser le processus de dépôt. Cela permet un contrôle précis de l'épaisseur du film qui est essentiel pour de nombreuses applications PVD. La chambre comporte un environnement à vide élevé qui permet une température de réaction allant jusqu'à 650 ° C Cette chambre dispose également d'une capacité unique à basse pression de gaz qui minimise les risques de contamination. Sa grande surface de dépôt combinée à son contrôle de la température et de la pression permet d'améliorer uniformément la structure du film. En outre, la chambre PVD utilise un panneau de gaz sur mesure qui permet l'introduction de gaz réactifs essentiels au dépôt. De plus, ce panneau peut contrôler le mélange de gaz inertes et réactifs dans la chambre de réaction. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Chambre PVD pour Endura fournit le contrôle et la compréhension des processus qui permettent la performance des appareils de pointe. Cette chambre permet également l'utilisation d'un large éventail de matériaux et de conditions de processus pour des applications dans les industries du dispositif de puissance, du dispositif de mémoire et des dispositifs optoélectroniques. PVD Chamber for Endura est l'outil idéal pour les applications avancées de PVD, permettant le dépôt de couches minces qui nécessitent des paramètres de dépôt précis et un contrôle de la température. Cette chambre combine les avantages de précision, d'uniformité et d'intégrité de surface avec la robustesse de son design unique.
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