Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275263 à vendre en France

Le réacteur AMAT PVD Endura est une chambre de dépôt physique en phase vapeur (PVD) de pointe utilisée pour déposer des films métalliques spécialisés de haute qualité et d'autres couches minces. Cette chambre est constituée d'un volume de réaction cylindrique en acier inoxydable, équipé de débits d'alimentation et de couplage RF. Il est conçu pour traiter plusieurs plaquettes, typiquement jusqu'à 6 « - 8 » de diamètre, en un seul processus. La chambre peut être équipée de diverses options de sources de matériaux, y compris la pulvérisation, l'évaporation et les sources magnétron. Le volume de réaction est relié au côté de commande de la chambre, qui abrite les alimentations électriques, la surveillance avant et après le processus, tels que les capteurs de matériaux, les pompes à vide et les jauges. Un ordinateur est intégré au système pour permettre un réglage automatique de la fréquence et de la puissance pendant le cycle de dépôt. Les chambres ont une plage de température comprise entre 5-350 Celsius et peuvent être pressurisées à 1,8 millibar. La réaction PVD est maintenue et épuisée dans la chambre par l'intermédiaire d'une pompe à vide à deux étages qui maintient la température et la pression à l'intérieur de la chambre, permettant un meilleur contrôle du processus de dépôt. La chambre est également équipée de contrôles de qualité, tels que la détection de particules de gaz, pour s'assurer de la qualité et de la précision des dépôts. La chambre est alimentée par une alimentation RF haute fréquence, capable de délivrer jusqu'à 500 watts de puissance à la surface de la plaquette. La chambre peut également être commandée en mode impulsionnel, permettant le dépôt pulsé de films plus complexes. Il est également capable de produire des films minces avec une épaisseur et une uniformité précises sur de grandes surfaces. Le réacteur Endura est un outil puissant pour le dépôt d'une variété de matériaux avancés, tels que la céramique, les nitrures, les alliages, les métaux et les polymères. Sa conception polyvalente accueille une large gamme de tailles de substrat sans sacrifier les performances, ce qui permet un dépôt constant de couches complexes sur plusieurs plaquettes. Les nombreuses capacités du réacteur Endura, telles que le contrôle précis de l'épaisseur et l'uniformité, en font l'une des chambres PVD les plus avancées du marché.