Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275270 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura est un réacteur avancé à dépôt physique en phase vapeur (PVD) amélioré par plasma conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cette chambre utilise un dosage linéaire de gaz de procédé pour produire une vitesse de dépôt répétable et un profil de dépôt uniforme. La chambre PVD est conçue pour le dépôt à haut débit et de haute qualité de couches minces sur des substrats dans des procédés de fabrication de semi-conducteurs. La chambre PVD dispose d'une puissante source magnétron, construction métal-céramique et équipement automatisé de contrôle des processus. La construction métal-céramique assure une conception robuste et durable, tandis que le système automatisé de contrôle des processus fournit des paramètres précis et reproductibles pour le dépôt. La source magnétron produit un niveau élevé d'énergie qui produit un dépôt de haute qualité. Le processus de dosage linéaire de la chambre PVD facilite un dépôt cohérent, répétable et uniforme. La chambre est conçue pour fournir une variété de procédés de dépôt, y compris le revêtement de barrière thermique, le tassage des métaux et le dépôt de films de nitrure. La chambre PVD est équipée d'une serrure de chargement, d'une station de pompage et d'un port de chargement/déchargement. La serrure de charge de la plaquette fournit une zone d'étape efficace pour prévenir les pertes de gaz de processus indésirables et la contamination des particules. La station de pompage permet l'évacuation rapide de la chambre, ce qui permet un temps de traitement court. Le port de chargement/déchargement offre une interface facile au processus de dépôt, avec des fonctionnalités telles qu'une interface graphique conviviale et l'accès à un ordinateur distant via un câble USB. La chambre est conçue avec des commandes et des moniteurs avancés, y compris un module de régulation de température, des relevés de température et des capteurs de capacité. Le module de régulation de température assure un fonctionnement précis et reproductible, tandis que les relevés de température assurent un suivi visuel du processus. Les capteurs de capacité fournissent une rétroaction continue sur le processus de dépôt, y compris la vitesse de dépôt, le profil et l'uniformité. La chambre PVD dispose également d'une unité de sécurité intégrée qui surveille la pression de la chambre et les niveaux de vide et fournit une alarme en cas d'événement anormal. La machine de sécurité comporte également un module de commande d'alimentation de la chambre si nécessaire. AMAT PVD Chamber for Endura est une chambre PVD avancée conçue pour des procédés de fabrication de semi-conducteurs de haut volume et de haute qualité. Cette chambre utilise un dosage linéaire des gaz de procédé, la construction métal-céramique et un outil automatisé de contrôle des procédés pour des paramètres précis et reproductibles pour le dépôt. La chambre est équipée d'une serrure de chargement de plaquettes, d'une station de pompage et d'un port de chargement/déchargement pour un transfert efficace et facile des plaquettes. Des systèmes de contrôle, de surveillance et de sécurité avancés garantissent la précision et la fiabilité des résultats des dépôts.