Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275281 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura permet un dépôt fin de précision pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et d'autres applications technologiques avancées. Cette chambre de réacteur est conçue pour répondre aux exigences les plus difficiles pour les procédés au niveau de la plaquette et de la filière qui nécessitent un dépôt de couches minces à haut débit, à haut rendement et à haute performance. La chambre est conçue pour faciliter des processus PVD rapides et efficaces, avec une large gamme d'options disponibles pour répondre aux besoins de tout environnement de production. La chambre Endura dispose du transfert et de la manipulation automatisés des plaquettes avec un joint d'étanchéité sur le haut et le bas de la chambre. Ceci est conçu pour minimiser les gaz atmosphériques entrant dans le processus. Des systèmes de serrage spécialisés sont fournis, qui permettent de passer rapidement d'une taille de plaquette à une autre sans nécessiter de réglage physique ou de reconfiguration. La chambre de réacteur Endura dispose également d'un obturateur à deux pales unique, permettant une entrée et une sortie rapides des plaquettes pendant le traitement. Cela réduit au minimum la contamination de l'environnement du procédé. Le premier de ces volets est une grille de protection qui se met en place au début de chaque cycle de plaquette, bloquant la formation de particules à l'extérieur de la chambre de procédé. La deuxième lame est positionnée plus près de l'entrée de gaz et sert à réguler l'espacement substrat-substrat pour un dépôt régulier et précis. La chambre peut être équipée d'une gamme d'entrées de gaz spécifiques au procédé, permettant une livraison et un contrôle précis du gaz pour créer des compositions uniformes tout au long du procédé. L'élément chauffant est conçu pour des vitesses de montée/descente rapides, avec la capacité de contrôler avec précision à la fois le substrat et les températures du creuset. Cela offre une flexibilité pour ajuster les températures de processus, les profils de dopage et la composition sur une large gamme de paramètres. AMAT PVD Chamber for Endura est une solution idéale pour les procédés nécessitant un dépôt précis de couches minces. La chambre offre un contrôle fiable et répétable des variables de processus, un contrôle environnemental rigoureux et des vitesses de traitement rapides (8 sec./wafer). Il s'agit d'un choix idéal pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés et d'autres applications nécessitant des résultats à haut débit et des performances reproductibles.