Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275283 à vendre en France

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur utilisé dans le dépôt de couches minces et d'autres matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs. La chambre, qui est conçue pour fonctionner dans un environnement de systèmes de dépôt sous vide, se compose d'une chambre de procédé, d'un anneau de retenue, d'une électrode active, d'une alimentation par induction haute fréquence, d'un équipement sous vide et d'autres composants nécessaires. La chambre de procédé a une paroi extérieure en acier inoxydable avec une paroi intérieure hautement polie pour assurer la meilleure qualité de film possible. Il est conçu pour être étanche et dispose d'une ouverture réglable pour permettre le contrôle du processus. Il dispose également d'un anneau de retenue qui aide à maintenir la chambre fermement fixée. L'électrode active est chargée de fournir les entrées nécessaires dans le processus de dépôt amélioré par plasma, contrôlé par l'alimentation d'induction haute fréquence. Le système de vide permet de fournir le niveau de vide nécessaire au processus de dépôt, typiquement de l'ordre de 10-6 Torr. Afin d'obtenir les meilleurs résultats possibles, AMAT PVD Chamber for Endura est équipé d'un certain nombre de fonctionnalités innovantes. Il s'agit notamment d'injecteurs de gaz inclinables, d'une unité de surveillance de l'effusivité personnalisable, d'une machine de commande à point flottant, d'un pistolet à pistolet à boucle fermée, d'une source d'ions et d'une source d'alimentation programmable à polarisation. En outre, la chambre est conçue pour être facilement modernisable, permettant aux utilisateurs de suivre les besoins en constante évolution tout en assurant la stabilité des processus à long terme. Globalement, APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura fournit une chambre avancée qui est très efficace, fiable et polyvalente, permettant aux utilisateurs de développer des films minces précis et fiables sur de nombreux cycles de production. Les fonctionnalités avancées disponibles font de la chambre un choix idéal pour un large éventail d'utilisateurs, des laboratoires universitaires à l'industrie des semi-conducteurs. Avec son rapport coût-efficacité et ses performances fiables, PVD Chamber for Endura est la solution idéale pour de nombreux besoins en couches minces.