Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275288 à vendre en France
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ID: 9275288
Taille de la plaquette: 12"
12"
Process: RFxT Cu
Magnet
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0041-06142; 0041-25104
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: PCG55003310-00288
Pedestal integration box: 0010-28071
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-44917
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Wafer lift motor: MQMA012AF
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 20
AR 20
AR 200
No Cryo pump.
AMAT (APPLIED MATERIALS) AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura est un réacteur de dépôt physique à haute performance en phase vapeur (PVD) conçu pour répondre aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs. Cette plate-forme modulaire offre une gamme de capacités de processus thermiques, chimiques et physiques pour une variété d'applications. La chambre dispose d'un design robuste qui offre une large fenêtre de processus pour un large éventail de dépôts métalliques et les besoins de traitement des matériaux. Il peut accueillir jusqu'à quatre modules de processus, permettant aux utilisateurs de reconfigurer rapidement et d'ajuster la mise en page pour tenir compte de nouvelles technologies ou applications. La construction modulaire et la configuration reconfigurable de la chambre permettent à l'utilisateur final de s'adapter rapidement aux changements de processus, permettant des transitions technologiques plus rapides. La chambre PVD est alimentée par une large gamme de gaz de procédé, dans les dépôts humides et secs, et dispose de soupapes de régulation automatique et de régulateurs de débit massique. Endura a également été conçu avec des systèmes de refroidissement avancés pour maximiser l'uniformité thermique sur l'ensemble du module de procédé, en éliminant les points chauds et en assurant un dépôt de couche supérieur. La chambre PVD est capable de déposer un large éventail de métaux et de matériaux, tels que le cuivre, le tungstène, l'aluminium et le titane. Il offre également un certain nombre de capacités de procédé uniques, telles que le dépôt de pulvérisateurs à haut débit, pour le dépôt de revêtements de haute qualité sur des substrats avancés. La chambre dispose également d'options programmables pour faire varier le diamètre de la cathode et la vitesse cible pour obtenir des profils de dépôt de formes complexes et des caractéristiques de couches minces. La chambre elle-même est entourée d'une armoire électronique logée dans un panneau de polyuréthane isolé de qualité environnementale, assurant un impact environnemental minimal. Les contrôleurs de l'armoire sont reliés aux systèmes XPS, ce qui permet de régler et de surveiller automatiquement la pression, la température et les paramètres de processus. De plus, la chambre fonctionne grâce à un panneau tactile convivial qui permet aux utilisateurs de gérer facilement les paramètres, de suivre les recettes et de surveiller les systèmes de chambre. Dans l'ensemble, AMAT PVD Chamber for Endura est un choix idéal pour la production de semi-conducteurs, avec une conception flexible, des capacités de processus puissantes, et la facilité de fonctionnement. Que vous déposiez un large éventail de métaux et de matériaux ou que vous recherchiez des caractéristiques de processus plus complexes, APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura offre une solution fiable et puissante pour vos besoins de production.
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