Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS RTP #9103291 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS RTP est une technologie de réacteur de pointe utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit du traitement thermique rapide (AMAT RTP) qui est utilisé pour accélérer la croissance des structures semi-conductrices. MATÉRIAUX APPLIQUÉS RTP est une technique hautement personnalisée qui maximise les taux de croissance des plaquettes de silicium et autres substrats. RTP travaille en chauffant et en refroidissant rapidement un substrat à des températures spécifiques, également appelées profils de température. Ces profils sont programmés pour des besoins spécifiques en fonction de la croissance souhaitée du matériau semi-conducteur. Les profils de température combinés à une chimie avancée des gaz contrôlent précisément la composition des couches de croissance. AMAT/APPLIED MATERIALS RTP combine deux systèmes, l'équipement de contrôle thermique et le système de serrure. L'unité de contrôle thermique est la machine qui contrôle les profils de température du substrat. A mesure que le substrat est chauffé et refroidi, divers gaz, tels que des gaz volatils et des gaz inertes, sont introduits à des niveaux prédéterminés pour faciliter le transfert d'énergie thermique. Ces gaz fournissent également une chimie de site de réaction supplémentaire et un contrôle de vitesse pour améliorer le traitement thermique. L'outil Endura 5500, par exemple, est capable d'atteindre des températures de 1000 ° C pour des applications particulières. L'actif de loadlock est une chambre à vide qui maintient un environnement propre. À l'intérieur, un bateau-échantillon peut contenir jusqu'à 4-6 substrats. Pour assurer les profils de température désirés, le bateau est scellé sous vide et chargé d'azote pour créer une atmosphère contrôlée. Lorsque le bateau est évacué, une température précise est atteinte en quelques secondes. Une fois le bateau chargé et les profils de température fixés, le réacteur effectue le traitement. Le bateau est placé dans un tube à quartz, scellé et chauffé au profil de température désiré. Ensuite, on introduit les gaz réactifs et on fait circuler le gaz chauffé autour des substrats. Il en résulte la croissance précise de la couche semiconductrice désirée. Une fois le processus terminé, les substrats sont transportés dans la chambre de refroidissement, où ils se refroidissent à la température ambiante. Tout le processus est très précis et donne des croissances de très haute qualité. Cela fait d'AMAT RTP un modèle fiable et précis pour la croissance des circuits semi-conducteurs modernes.