Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS RTP #9225694 à vendre en France

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ID: 9225694
Taille de la plaquette: 12"
Chambers, 12" Lamp housing Brazed Flex flange.
AMAT Reactor Technology Platform (AMAT/APPLIED MATERIALS RTP) est la plateforme leader mondial pour le développement de procédés et la production de matériaux semi-conducteurs. Dans l'industrie des semi-conducteurs, AMAT RTP est utilisé pour piloter la miniaturisation des appareils et augmenter les vitesses de processus en réduisant les temps de cycle dans la fabrication des plaquettes. Il s'agit d'une plate-forme prête à la production intégrant des procédés de dépôt avancés à faible coût et à haute performance pour développer et optimiser des recettes de matériaux fabriqués à des températures et pressions élevées. L'environnement fourni par la plate-forme APPLIED MATERIALS RTP est essentiel pour produire les éléments critiques de plaquette - tels que les caractéristiques et les contacts - requis par les conceptions modernes de semi-conducteurs. RTP dispose d'une chambre de dépôt avancée dotée de technologies innovantes qui permettent le dépôt de matériaux d'ingénierie avec un meilleur contrôle des biens. Cette chambre de dépôt dispose d'un système avancé de contrôle et de diagnostic des procédés capable de développer rapidement des recettes à des températures et des pressions élevées, ainsi qu'un contrôle précis des propriétés des matériaux. Il dispose également d'un contrôle précis de la température et d'un contrôle précis et précis de la composition du matériau. Le système de contrôle des procédés permet en outre une large gamme de stratégies de dépôt de matériaux conformes et non conformes, permettant la production de caractéristiques très complexes utilisées dans les conceptions modernes de semi-conducteurs. La plate-forme RTP AMAT/APPLIED MATERIALS est également conçue pour maximiser la flexibilité pour le développement de processus, en fournissant un calendrier efficace, l'historique des produits traçables et l'accès aux produits dans plusieurs géographies. Cela permet le développement de produits de matériaux complexes à travers une variété de processus tout en minimisant les temps d'arrêt. Il offre également la capacité d'analyser les données et d'évaluer les produits sans compromettre l'uniformité. La chambre de procédé de l'AMAT RTP comprend également une multitude de systèmes avancés d'injection de gaz inerte tels qu'un injecteur de gaz à flux multiple, des systèmes de génération de N2 et de H2, d'injection d'ozone et d'oxygène, ainsi que des systèmes actifs de liaison à l'azote et de rotation des cristaux. Ces caractéristiques permettent de réaliser dans un même environnement des procédés de fabrication de plaquettes tels que le traitement thermique rapide, le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression, l'épitaxie rapide et le dépôt électrochimique. Cette chambre est en outre conçue pour optimiser les performances de la zone réactionnelle et assurer une stabilité à haute température pendant le processus de dépôt. En résumé, APPLIED MATERIALS RTP est une plate-forme avancée et prête à la production qui intègre le meilleur des technologies modernes pour produire des caractéristiques critiques utilisées dans les conceptions complexes de semi-conducteurs pour la miniaturisation des appareils et une efficacité accrue. La plate-forme peut être utilisée pour développer des recettes de matériaux fabriqués à des températures et des pressions élevées, offrant un contrôle précis de la composition et des propriétés des matériaux et un ordonnancement efficace des processus. Il est conçu pour fournir un environnement complet, permettant la production efficace et fiable de produits de matériaux complexes tout au long du processus de semi-conducteur.
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