Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Siconi R2 #9375625 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Siconi R2 est un four à CVD (dépôt chimique en phase vapeur) qui est utilisé pour créer des couches minces sur des substrats tels que des plaquettes semi-conductrices et d'autres dispositifs à couches minces. AMAT Siconi R2 est conçu pour fournir des résultats de dépôt fiables et reproductibles avec une épaisseur de film précise, une uniformité et une précision de composition. Le four est à température contrôlée et dispose d'un foyer en quartz conçu pour maintenir une uniformité de température de +/-3 ° C dans tout le plan de la plaquette tout en assurant un dépôt uniforme ainsi qu'une excellente cristallinité du film, un indice de réfraction et des constantes diélectriques. Il comprend également un système d'échappement double qui permet un meilleur contrôle de la température et de la pression et permet une meilleure uniformité de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Siconi R2 dispose également d'un panneau de gaz sans fond à basse température qui permet un échange cellulaire rapide et la possibilité d'utiliser plusieurs réactifs. Le réacteur supporte également des injecteurs à faible pression et à fente, des cellules de mélange de gaz et un pré- et post-chauffage pour améliorer les propriétés des films. En plus de ses capacités de dépôt, Siconi R2 comprend l'analyse et la surveillance des processus pour s'assurer que des résultats de haute qualité sont atteints. Le réacteur est équipé d'une surveillance en temps réel/en fin d'exploitation, qui comprend des diagnostics in situ pour détecter les problèmes liés au processus. Il comprend également un système embarqué qui permet de recueillir, de stocker et d'analyser des données sur le rendement afin de créer une piste de vérification automatisée des processus et d'améliorer la fiabilité et la répétabilité des processus CVD. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Siconi R2 supporte également une large gamme de substrats de plaquettes, y compris des matériaux monocristallins, non cristallins, composés et oxydes, ce qui le rend idéal pour une variété d'applications, y compris la fabrication de mémoire et de dispositifs logiques, les nanostructures et les couches diélectriques hautes de k. Dans l'ensemble, AMAT Siconi R2 fournit des dépôts CVD fiables et reproductibles avec une épaisseur de film précise et une uniformité, permettant des résultats de haute qualité pour de nombreux types de procédés. Le réacteur comporte de nombreuses caractéristiques qui permettent d'améliorer les performances et la surveillance du procédé, ce qui en fait un choix polyvalent et fiable pour les applications de dépôt en couches minces.