Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Smartweb SL-3L/800 #293745938 à vendre en France

ID: 293745938
Style Vintage: 2018
Roll to roll coating system (2) Chillers Roughing pump system Process and rewinding module Media supply Electrical cabinet Cooling Heating Trolley Cathode colling Control PC Console table Scrubber Coatings: Materials / Mode Metals: Copper, Gold, Silver, Aluminium, Molybdenum, Titanium / DC Alloys: Ni/Cr 80/20 / DC Dielectrics: ITO, AI:ZnO / DC SiOx, AI2O3, TiO2 /MF ZnO / DC, MF System cooling water: Inlet pressure: 4 to 6 bar Outlet pressure: Pressure-less, Open drain Consumption: Maximum 50 m³/h Average consumption: Approximate 26 m³/h Temperature (Inlet): Minimum 18°C, Maximum 22°C Temperature rise: Maximum 6°C Carbonate hardness: <6 to 8° pH value: 8.5 to 10 particle size: Maximum 100 μm Particle concentration: Maximum 10 parts/cm³ CO2-content: Maximum 15 mg/l CI-content: Maximum 20 mg/l Cathode cooling circuit: Filling quantity: Approximate 1100 Liters Carbonate hardness: <7° pH value: 8.0 to 9 Particle size: <5 µm Solved oxygen: Maximum 5 mg/l Resistivity at + 25°C: >2 x 103 Ohm cm Compressed air: Pressure: 6 to 7 bar Average consumption: Approximate 1 m³/h Particle size: Maximum 5 µm Particle concentration: Maximum 5 mg/m³ Oil-content: Maximum 5 mg/m³ Dew point: 2°C Gases: Argon, Nitrogen, Oxygen, Argon/Oxygen 80/20 Pressure: 1, 2 bar Purity: 99.995 Gas tubing: Stainless steel, Coupling Winding: Web speed: 0.5 to 20.0 m/min + 0.1% of nominal speed at the motor shaft Unwind / Rewind: 60 to 600 N Tension measuring rollers with analog load cell Vacuum: Ultimate pressure: <8 x 10^-7 mbar in sputtering compartments of process modules Pump down time to ultimate pressure: 24 Hours Pressure during sputtering: 1 to 9 x 10^-3 mbar Pump down time to 6 x 10^-6 mbar: <60 minutes Measured at a pressure: < 2x10^-3 mbar Gas separation factor between sputter compartments and sputtering compartments: >100: 1, only for maximum substrate thickness loaded Electrical Services: Voltage: 400 V +10/-10% 50 Hz, 3 Phase, TN-network with loadable PEN for 60 Hz Connected load: 320 kVA Average consumption: Approximate 240 kW Short circuit current: Maximum 50 kA Process coating: Magnetron sputtering coating technology One coated side Substrate width: Maximum 820 mm Coating area web width reduced: 10 mm Coating width: Minimum: 300 mm, Maximum: 600 mm Environment: Temperature: Minimum 15°C, Maximum 35°C Humidity: Maximum 90% at 20°C, Maximum 50% at 35°C Maximum altitude of installation site: 1000 m above sea level 2018 vintage.
Le réacteur AMAT Smartweb SL-3L/800 est un équipement de dépôt en couches minces de pointe conçu pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Cet outil sophistiqué intègre des technologies innovantes pour atteindre des niveaux élevés d'uniformité des films, de contrôle des processus et de productivité. Le réacteur SL-3L/800 fait partie de la série Smartweb MATÉRIAUX APPLIQUÉS, connue pour ses performances supérieures et sa fiabilité dans la fabrication de circuits intégrés et autres dispositifs électroniques. Au cœur du réacteur SL-3L/800 se trouve sa conception de chambre avancée, qui permet un contrôle précis du processus de dépôt. Le réacteur est équipé d'un système de régulation de température multi-zones, permettant d'optimiser les propriétés du film sur la surface du substrat. Cette caractéristique garantit une excellente homogénéité et cohérence dans l'épaisseur du film, cruciale pour la performance et la fiabilité des dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur SL-3L/800 utilise une configuration à haut débit, permettant le dépôt de couches minces sur des substrats de grandes tailles de lots. Cette capacité améliore considérablement la productivité et le rapport coût-efficacité dans les opérations de fabrication de semi-conducteurs. Le réacteur est conçu pour accueillir différentes tailles, formes et matériaux de substrat, offrant flexibilité et polyvalence dans les processus de production. Une des caractéristiques clés du réacteur SL-3L/800 est son unité de distribution de gaz avancée, qui assure un contrôle précis du débit de gaz et du mélange à l'intérieur de la chambre. Cette caractéristique améliore l'homogénéité et la pureté des films déposés, contribuant à la qualité globale des dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur est également équipé d'une machine sophistiquée de contrôle de pression, permettant des conditions de processus stables et des propriétés de film améliorées. Le réacteur SL-3L/800 est intégré à la plate-forme logicielle exclusive Smartweb d'AMAT/APPLIED MATERIALS, qui offre des capacités complètes de surveillance et de contrôle des processus. Le logiciel permet l'optimisation des processus en temps réel, la détection des défauts et l'analyse des données, assurant une répétabilité et un rendement élevés des processus. La plateforme Smartweb permet également la surveillance et le contrôle à distance du réacteur, facilitant l'efficacité opérationnelle et réduisant les temps d'arrêt. En termes de capacités de dépôt, le réacteur SL-3L/800 supporte un large éventail de matériaux à couches minces, y compris des diélectriques, des métaux et des semi-conducteurs. Le réacteur est capable de déposer des films avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition, vital pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Que ce soit pour des applications en première ou en fin de ligne, le réacteur SL-3L/800 offre la flexibilité et les performances requises pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs de pointe. En conclusion, le réacteur AMAT Smartweb SL-3L/800 est un outil de dépôt en couches minces de pointe qui combine précision, productivité et fiabilité dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec sa conception de chambre avancée, ses capacités de débit élevées et sa plate-forme logicielle intégrée, le réacteur SL-3L/800 offre des performances exceptionnelles pour la fabrication d'appareils électroniques de nouvelle génération. Ce réacteur représente un progrès technologique clé dans l'industrie des semi-conducteurs, permettant aux fabricants de répondre aux exigences de l'évolution des tendances et des applications du marché.
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