Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS T002-00360 #293655401 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360 est un réacteur à plasma contrôlé par ordinateur utilisé pour les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il est utilisé pour évaporer divers matériaux tels que le silicium, le nitrure de silicium, le titane et le tungstène, conduisant à un revêtement en couche mince. AMAT T002-00360 dispose d'un équipement de mélange de gaz qui peut être adapté aux exigences de chaque procédé et comprend des options pour la production directe de chaleur ou de plasma. Le réacteur APPLIED MATERIALS T002-00360 est conçu pour fournir un mélange homogène de gaz dans tout l'espace de la chambre, assurant un dépôt uniforme. Ce réacteur robuste, fiable et facile à exploiter peut fournir des dépôts de couches minces cohérents et reproductibles sur de grands substrats de plaquettes. T002-00360 dispose d'un système de contrôle de la pression et du débit de gaz contrôlé par ordinateur pour des conditions de processus optimales et reproductibles. Il utilise un procédé de distribution de gaz de type diffusion pour assurer un écoulement uniforme de la vapeur sur le substrat. AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360 peut également être équipé d'un tube à quartz, par lequel le matériau d'évaporation est ajouté dans le plasma. La conception robuste de l'unité assure un processus stable et cohérent, et la flexibilité des paramètres du processus permet le dépôt d'une grande variété de matériaux. AMAT T002-00360 dispose également d'une machine de détection des points d'extrémité (EPD) basée sur l'interférométrie laser utilisée pour détecter avec précision la fin du processus de dépôt et optimiser la stoechiométrie du matériau déposé. L'outil EPD est également utilisé pour surveiller le profil des films déposés, pour assurer l'uniformité de dépôt souhaitée. APPLIED MATERIALS T002-00360 convient à toutes les applications PECVD, ALD et CVD à basse température. Il est important de noter que T002-00360 nécessite un entretien et un recalibrage de routine pour assurer des résultats cohérents et reproductibles à long terme. L'utilisation de matériaux de haute qualité permettra également de maintenir l'uniformité et la performance de la couche de dépôt pendant toute la durée de vie de l'unité. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360 est un actif de dépôt plasma avancé, fiable et fiable utilisé pour divers processus CVD. Il offre une couverture uniforme sur les grands substrats de plaquettes et est équipé de technologies innovantes pour améliorer la précision et l'efficacité. AMAT T002-00360 est également très flexible, ce qui permet de personnaliser les paramètres du processus en fonction de l'application. Avec un entretien et un recalibrage réguliers, APPLIED MATERIALS T002-00360 est un excellent choix pour les processus CVD avancés.
Il n'y a pas encore de critiques