Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD #9139463 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Ultima HDP-CVD est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur conçu pour fournir aux clients des matériaux avancés un dépôt de couche mince de haute qualité. Une caractéristique clé de ce réacteur est sa capacité de plasma haute densité (HDP). La configuration de la source HDP permet une excitation plasma cohérente et uniforme sur l'ensemble du substrat, fournissant des couches de couches minces uniformes et sans défaut avec une reproductibilité exceptionnelle. D'autres caractéristiques qui font d'AMAT Ultima HDP-CVD un choix attrayant pour le dépôt de film comprennent sa routine d'optimisation automatisée des processus, qui peut offrir un contrôle précis sur les paramètres du processus, et son alimentation à plasma actif à haute capacité, qui assure une excitation plasma stable et robuste sur une large gamme de gaz de processus. Pour déposer des couches de couches minces, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Ultima HDP-CVD utilise une source à paroi chaude et utilise une excitation plasma haute fréquence. Ceci génère un plasma homogène qui favorise une activité chimique soutenue nécessaire au dépôt de couches minces de qualité. Contrairement aux sources à paroi froide, le type de paroi chaude utilisé dans Ultima HDP-CVD ne nécessite pas d'enceinte chauffée à l'extérieur pour atteindre les températures souhaitées. Cela simplifie le fonctionnement et permet d'économiser de l'énergie. Le réacteur est capable de produire des matériaux à couches minces dans diverses configurations, y compris des couches simples à multiples. Il est également construit sur une plate-forme robotique de qualité industrielle, permettant l'ingénierie de précision de l'environnement de dépôt. Cette conception permet aux utilisateurs d'automatiser le processus de dépôt, réduisant le besoin de travail manuel et augmentant le débit du système. Le système est conçu pour être entièrement intégré dans un environnement d'usine, permettant un processus de production efficace avec un minimum de temps d'arrêt pour la maintenance. En outre, le logiciel fournit des fonctionnalités de sécurité avancées pour assurer la sécurité des opérations tout au long du processus. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Ultima HDP-CVD est également compatible avec la plupart des sources d'alimentation et peut être utilisé en conjonction avec une gamme de substrats. Cela le rend adapté à diverses applications, telles que la réalisation de dispositifs intégrés de logique et de mémoire, de nanostructures et de composants optiques à couches minces. En résumé, AMAT Ultima HDP-CVD est un réacteur de dépôt chimique avancé qui offre une excellente qualité de dépôt et répétabilité. Il dispose d'une source de plasma à paroi chaude qui fournit un plasma uniforme et fonctionne à une gamme de températures, permettant un large éventail de processus. Ses fonctions d'optimisation automatisée des processus et sa conception intégrée permettent également d'améliorer l'efficacité et de réduire les coûts de maintenance. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Ultima HDP-CVD est un choix attrayant pour de nombreuses applications, y compris la logique intégrée et le dispositif de mémoire, la nanostructure, et la fabrication de composants optiques en couches minces.