Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9249285 à vendre en France
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Vendu
ID: 9249285
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2009
HDP CVD System, 12"
(2) Load ports
FI Alignment: FI Alignment fixtures
Atmospheric robots: YASKAWA XU-RCM6841
Monitors: Chase type (Rack)
Slit valve:
(2) Parker AD276510A
(3) VAT A-728585
Transfer chamber robots: STD Reach dual blade robot (Clear Lid)
Chiller: SMC INC-498-011C
Chamber A:
TMP: SHIMADZU TMP-H3603LMC-A1
Gas ring: 36
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber B:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber D:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
Process Kit
RF Generator type:
(6) MKS Spectrum 11002
(3) MKS Spectrum 10513
Gas configurations:
Chamber A:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 Ar 1,000
Line 6 He 600
Line 7 H2 1,000
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 NF3 400
Line 11 NF3 5,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber B:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber D:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
2009 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Ultima X est un réacteur utilisé pour le dépôt de couches de matériaux sur des plaquettes et autres substrats. Il a été conçu pour être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs et est considéré comme l'un des réacteurs les plus fiables, précis et productifs disponibles aujourd'hui. Le réacteur AMAT Ultima X est conçu pour un large éventail de procédés de dépôt, tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt en couche atomique (ALD), etc. Sa conception consiste en une chambre chauffée et isolée avec de multiples niveaux de chauffage pour permettre un dépôt précis des matériaux. Il a des chambres de deux à huit, selon les exigences du processus, et chaque chambre est équipée d'un équipement de livraison qui régule la température, la pression et le débit de gaz pour des résultats optimaux. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Ultima X offre un haut niveau de performance et de fiabilité. Son gradient de température élevé, combiné à sa faible masse thermique, permet des taux de dépôt élevés qui peuvent réduire les temps de processus jusqu'à 40 %. Sa conception avancée permet également une homogénéité à basse température, une faible dérive thermique et des performances de durée de vie plus élevées. Ultima X offre également des fonctionnalités de propreté en place (CIP) et de transfert de solution rapide (RST) afin d'assurer un traitement rapide et efficace. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Ultima X offre également un système de contrôle avancé pour maximiser l'efficacité et la fiabilité de l'unité. Sa machine de commande intégrée est conçue pour des performances et une flexibilité élevées, et permet aux utilisateurs de personnaliser le fonctionnement de l'outil en fonction des besoins spécifiques de chaque application. Il comprend des fonctionnalités telles que le diagnostic et l'étalonnage in situ, la synchronisation à grande vitesse, le débit de gaz intégré et le contrôle de la température, et plus encore. Dans l'ensemble, AMAT Ultima X est un réacteur avancé, fiable et performant conçu pour les procédés de dépôt dans l'industrie des semi-conducteurs. Avec son taux de dépôt élevé, sa faible dérive thermique et ses moyens de contrôle intégrés, il est capable d'obtenir des résultats précis et cohérents, même pour des processus très exigeants.
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