Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9255628 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Ultima X est une technologie de gravure plasma ultra haute densité utilisée dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs complexes. C'est un réacteur à plasma à couplage inductif (PIC), ce qui signifie qu'il exploite des champs électromagnétiques pour créer des plasmas constitués d'ions et de radicaux énergétiques qui peuvent être utilisés dans la gravure en couches minces. La gravure de couches minces, telles que celles des dispositifs nanoélectroniques, est essentielle pour accélérer le processus de stockage des données dans la fabrication de nanodévices et d'autres produits semi-conducteurs. AMAT Ultima X est polyvalent car performant pour toutes les chimies et tous les matériaux de gravure. La structure unique du réacteur se compose de trois cylindres concentriques, permettant aux espèces réactives et aux précurseurs chimiques de se déplacer rapidement, éliminant l'apparition de dépôts d'énergie thermique. Ceci améliore grandement l'uniformité de gravure sur le substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Ultima X utilise également une source haute densité avec un fonctionnement à basse pression, qui se combine pour créer un processus de gravure très efficace. Pour ce faire, on utilise la source d'énergie à double entraînement qui utilise à la fois les ions négatifs et les électrons pour ioniser efficacement les espèces plasmatiques. Cet équipement plasma haute densité fournit une anisotropie de gravure supérieure à d'autres procédés, réduisant significativement les pertes latérales de gravure et permettant des caractéristiques de résolution plus élevée. Ultima X intègre également une technologie brevetée de distribution de gaz qui améliore le processus de gravure tout en atténuant la contamination des espèces réactives. Cette technologie utilise des algorithmes informatiques avancés pour contrôler avec précision la pression entre les précurseurs de gravure et le substrat, en veillant à ce que les espèces plasmatiques arrivent au substrat en quantités idéales et avec une diffusion minimale. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Ultima X utilise également un système avancé d'inspection des substrats optiques (OSI) pour garantir la qualité des produits finaux. Cette unité utilise la spectroscopie de lumière visible et infrarouge pour détecter les contaminants du silicium, l'épaisseur de l'oxyde de grille, l'endommagement de l'oxyde de grille et la défaillance de l'oxyde de grille. De plus, la machine AMAT Ultima X OSI est en même temps capable de mesurer les dimensions critiques du motif de gravure afin d'assurer un rendement élevé. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Ultima X est un réacteur de gravure riche en fonctionnalités avec des capacités avancées. Sa source de plasma haute densité, son fonctionnement à basse pression et son débit dynamique de gaz associés à une inspection efficace du produit final garantissent des performances de gravure et une précision optimales. Ultima X est utilisé dans un large éventail d'applications, telles que le développement de dispositifs nanoélectroniques sophistiqués, et est un outil de gravure très fiable.