Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima #9190317 à vendre en France

ID: 9190317
CVD System, 8".
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Ultima est un système avancé de gravure plasma pour dispositifs semi-conducteurs. Le système est conçu pour un traitement performant et peu coûteux, et pour permettre la gravure précise d'un large éventail de matériaux et de structures à haut rapport d'aspect. Le réacteur AMAT Ultima est composé d'une chambre de verrouillage de charge, d'une source de résonance cyclotron électronique (ECR) et d'une source de plasma à couplage inductif (ICP). La chambre de serrure permet l'introduction de plaquettes et le pré-nettoyage de la plaquette avant gravure. La source ECR génère un puissant champ électromagnétique haute fréquence, ce qui crée des électrons très énergétiques. Ces électrons interagissent avec le plasma pour créer un plasma très uniforme et ionisé. La source ICP fournit alors de l'énergie supplémentaire au plasma, ainsi que du gaz de chanfrein et un gaz réactif. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Ultima offre une répétabilité des procédés grâce à des algorithmes avancés de contrôle des procédés et est optimisé pour réduire les dépôts en phase gazeuse et en phase particulaire. Il génère également des bords extrêmement courts, qui sont idéales pour les structures à haut rapport d'aspect. En outre, il dispose d'un large éventail de capacités de processus, y compris la gravure à sec, le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le silicium polycristallin à basse température (LTPS) et les procédés d'affichage à cristaux liquides (LCD). Ultima réacteur est optimisé pour les performances avec des recettes personnalisables. Il est incroyablement rapide, avec des débits élevés, et il a un taux de gravure élevé et une excellente sélectivité de dépôt. Sa flexibilité de processus le rend adapté à une variété de configurations de processus, y compris monobloc, outils de cluster, et multi-graveurs avec des processus simultanés. Il dispose également d'outils d'édition de recettes faciles à utiliser, permettant aux utilisateurs de modifier les paramètres de processus pour s'adapter à une application particulière. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Ultima est un système de gravure et de dépôt plasma très avancé, avec des capacités de gravure et de dépôt précises, un contrôle des procédés hautement reproductible, et il est adapté à une large gamme de procédés semi-conducteurs. Sa grande efficacité, sa flexibilité et sa technologie de pointe font du réacteur AMAT Ultima un choix idéal pour la fabrication de microélectroniques très complexes.
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