Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS WxZ Chamber CVD Centura for P5000 #293648481 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Chambre WxZ CVD Centura for P5000 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) unique conçu pour la fabrication de circuits intégrés (IC). Cet équipement de pointe dispose d'un équipement de chauffage chimique à réaction à plusieurs stations (jusqu'à deux) qui produit un dépôt de film exceptionnellement uniforme, permettant un contrôle précis de l'épaisseur de la couche et un débit accru. La chambre de réaction est équipée de chambres WxZ qui présentent un taux de dépôt de film couplé électrostatique élevé et une homogénéité directionnelle supérieure. Il offre également une meilleure conduction thermique à travers la chambre, éliminant les points chauds et permettant un dépôt de gradient thermique uniforme. Cet équipement offre des capacités de chargement de substrat impressionnantes avec un ou deux mécanismes de transfert. Chaque mécanisme offre jusqu'à cinq positions de chargement personnalisées qui peuvent être optimisées pour une uniformité optimale des précurseurs. La capacité de charge est encore améliorée par Electrostatic-Coupled CVD, permettant une large gamme de techniques de croissance de film tels que CVD conforme, contrôle de diffusion et systèmes de contrôle de surface. Le système permet également la création de couches de films multiples. Le P5000 offre une unité de vision haute résolution qui augmente la précision lors de l'alignement des substrats. Le bras de nettoyage double substrat offre une couche supplémentaire de nettoyage qui augmente la fiabilité et la précision lors de la production. Un moniteur intégré analyse la composition et l'homogénéité du dépôt. La fonction d'acquisition directe de données du contrôleur permet un enregistrement et un suivi faciles des données. En outre, le P5000 profite d'une machine de régulation de température avancée qui offre une homogénéité thermique inégalée. Le logiciel est équipé d'un maximum de quatre profils de flux de gaz qui peuvent être adaptés à l'application souhaitée. L'utilisation de CVD Chambre étanche améliore encore la fiabilité des processus. L'utilisation de procédés dynamiques à basse pression élimine encore le besoin de pompes à vide, ce qui permet d'économiser du temps et de l'argent sur les coûts du vide en aval. Dans l'ensemble, AMAT WxZ chambre CVD Centura for P5000 fournit aux utilisateurs un équipement polyvalent et fiable pour la fabrication d'IC. Sa conception ultramoderne, ses multiples étapes de nettoyage des substrats et son outil de contrôle de la température, associés à son logiciel de pointe, font de ce réacteur un leader dans la technologie CVD.