Occasion APPLIED MATERIALS Centura 5200 DXZ #64984 à vendre en France

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ID: 64984
Darc Silane CVD System, 8" 208A, 3 Phase, 50/60Hz 87KVA, 10,000amps Chamber A,B,C: DxZ Silane Chamber, E: Single Cool Down, F: Orienter Process gas used: SiH4, H2, CF4, HE Wide Body Loadlock, HP Robot SNNF, HP Robot" 2000 vintage See attached for more specifications.
MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 DXZ est un réacteur de traitement semi-conducteur conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur dispose d'une chambre de transfert de plaquettes de grande surface et d'une chambre de traitement avec deux serrures de charge de petite surface. Il offre une haute précision, contrôle de processus de haute précision pour la production de transistors, diodes, transistors, et plus encore. Centura 5200 DXZ offre une source d'ions intégrée avec un magnétron linéaire à grande vitesse, offrant un champ source d'ions de haute uniformité, des densités de courant réglables et une distance cible-plaquette précise. Le réacteur dispose d'un équipement à vide de grande surface et d'un système d'évacuation intégral à paroi chaude avec pompes à double rugosité et ports d'entrée/sortie multiples. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité réacteur Centura 5200 DXZ comprend trois chambres indépendantes qui peuvent être utilisées comme outils autonomes ou en série. La chambre de transfert offre un traitement rapide et une capacité de chargement et de déchargement de substrat de grande surface. La chambre de procédé comprend une source de magnétron tournant à grande vitesse pour une homogénéité accrue et un contrôle fin du substrat. La troisième chambre est la chambre de gravure, qui utilise un magnétron à guide d'onde de grande puissance pour réaliser une gravure anisotrope uniforme et à haut débit. La machine à réacteur Centura 5200 DXZ offre plusieurs fonctionnalités avancées. Il dispose d'une technologie automatique de nettoyage et de préparation des substrats, permettant des rendements accrus et des temps de cycle plus rapides. Il comprend également un outil de diagnostic in situ intégré, qui surveille et ajuste la température de la plaquette et les réactions chimiques en temps réel. Le réacteur offre un réglage fin de plusieurs paramètres tels que le profil, le dosage, la vitesse et la température. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'actif du réacteur Centura 5200 DXZ est conçu pour un large éventail de procédés, allant de la lithographie au dépôt multicouche, à la gravure et au dépôt. Il convient à une utilisation sur des semi-conducteurs composés, tels que l'arséniure de gallium, avec des rendements et des durées de cycle accrus. Il est également capable de manipuler des implantations à haute énergie, telles que la lithographie, la métrologie et le décapage photorésist, sans compromettre les performances. Avec son contrôle précis, sa haute densité et son fonctionnement de haute précision, le Centura 5200 DXZ est un outil précieux dans l'industrie des semi-conducteurs.
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