Occasion APPLIED MATERIALS Centura 5200 #174265 à vendre en France
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Vendu
ID: 174265
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
WxP system, 8"
Includes:
Centura Main Frame
System Controller/AC Power Box
Process: Etch Back (W.EB)
System Power Rating: 208 VAC 3-Phase
Loading Configuration: Wide Body Load Lock Chamber
Robot Type: HP Robot wafer handling assembly
CRT Monitor and Monitor Base with light Pen x2
RF Generator Rack x1 (ENI OEM-12B3-03)
(4) Nabtesco Dry Pump (EV4002)
(2) Toyota Dry Pump (EC100L)
(2) Dikin Chiller (UBRP2AMPE )
SMC Chiller (INR-498-012D-X012)
Showa Denko Scrubber
Chamber Configuration:
Load Lock Chamber A
Load Lock Chamber B
Transfer Chamber
Chm Position A: Centura WxP Chamber
Chm Position B: Centura WxP Chamber
Chm Position C: Centura WxP Chamber
Chm Position D: Centura WxP Chamber
Chm Position E: Empty
Chm Position F: Orienter Chamber
De-installed and crated
1997 vintage.
MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura 5200 est un équipement avancé de gravure de plasma au niveau des transistors qui offre un large éventail d'avantages aux utilisateurs. Ce dispositif est un outil spécialisé pour la fabrication, le conditionnement et l'essai de puces et composants semi-conducteurs ultra-modernes. C'est une solution de gravure fiable, efficace et économique. Centura 5200 dispose d'une puissante source de plasma à couplage inductif. Cette source est capable de produire des volumes extrêmement importants d'ions hydronium ionisés à des températures élevées, permettant des taux de gravure élevés à des moments aussi bas que 5 nanosecondes. Le procédé utilise une puissance à haute fréquence et un matériau réactif, généralement un gaz, pour oxyder la surface du silicium pour créer de minuscules tranchées et tunnels. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 suit la norme de l'industrie Multi-View Design (MVD) offre aux utilisateurs une précision et une précision inégalées. Il utilise également une technologie de capteurs parallèles qui offre une meilleure vision du substrat, permettant aux utilisateurs de détecter rapidement les faiblesses susceptibles de limiter les rendements des processus. Centura 5200 est un système de gravure entièrement automatisé. La conception et la construction de l'unité ont été conçues pour minimiser le risque de contamination du produit. Des caractéristiques telles qu'une machine avancée de nettoyage de la toile en silicone et le chargement et le déchargement automatisés de l'effecteur final garantissent que les utilisateurs n'ont besoin que d'une intervention manuelle minimale pour garantir un produit de haute qualité et sans contamination. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5200 est conçu pour une fiabilité supérieure. Son outil PFI (Portable Film Implant) de haute précision assure une distribution et une homogénéité constantes des matériaux évaporés, contribuant ainsi à améliorer le contrôle des processus et l'optimisation des rendements. De plus, grâce à sa porte ionique intégrée, les utilisateurs peuvent rapidement et facilement améliorer la flexibilité du processus. Centura 5200 est un atout de gravure qui apporte des avantages inégalés aux utilisateurs. Ce dispositif est facilement intégré dans les lignes de production existantes et offre une solution de gravure efficace et rentable. Sa conception fiable et précise, son automatisation avancée et son contrôle supérieur des processus en font l'une des meilleures solutions de gravure sur le marché aujourd'hui.
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