Occasion APPLIED MATERIALS Centura HDP CVD #100063 à vendre en France

MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura HDP CVD est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour des applications avancées de traitement microélectronique et nanotechnologique. Le système a été conçu pour améliorer les performances, la flexibilité et l'uniformité par rapport aux anciens systèmes CVD. L'unité est équipée d'un tube à quartz et de deux suscepteurs chauffés, un inférieur et un supérieur, ainsi que d'une machine de distribution de gaz. Le tube à quartz est une chambre de pression simple et comprend le tube à quartz, ses brides et joints supérieurs et inférieurs, une traversée de lumière et des régleurs de niveau. Les suscepteurs sont chauffés par des lampes infrarouges, ce qui entraîne un chauffage et un refroidissement rapides du substrat à déposer ; il produit également un champ thermique uniforme sur la surface du substrat. L'outil de distribution de gaz de Centura HDP CVD se compose d'un débitmètre de gaz, d'une vanne séquentielle, d'une couverture d'alimentation en gaz et de vannes de dérivation. Le débitmètre de gaz permet de mesurer avec précision les débits d'alimentation en gaz des bouteilles de gaz individuelles. La vanne séquentielle aide à contrôler le flux de gaz des sources de gaz vers l'actif. L'alimentation en gaz de couverture permet de délivrer une couverture de gaz inerte cumulée sur le substrat. Les vannes de dérivation sont utilisées pour vider la chambre du modèle en cas de dysfonctionnement. L'équipement est en outre équipé d'une pompe à vide et de soupapes de sécurité, de manomètres et de capteurs thermocouple pour surveiller et mesurer les niveaux de vide et de température, respectivement, à l'intérieur de la chambre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système CVD Centura HDP dispose également d'un puissant logiciel de commande qui permet aux utilisateurs de programmer les différents paramètres de processus pour produire différentes qualités de film et des niveaux d'uniformité. Le logiciel peut également être utilisé pour stocker, analyser et recréer les recettes et les paramètres de processus. L'unité fournit un débit élevé avec des vitesses de dépôt rapides et une uniformité, tout en contrôlant la qualité du film déposé. Il peut être utilisé pour déposer du métal et d'autres films à base de métal tels que l'aluminium, le cuivre et le titane, ainsi qu'une variété de films diélectriques et d'oxydes. La machine est également capable de travailler avec divers procédés comme l'ALD (Atomic Layer Deposition) et le dépôt conforme. L'outil Centura HDP CVD offre une expérience CVD fiable et optimisée qui est très accessible pour les industries de fabrication. Il est capable de produire un dépôt de haute qualité avec une uniformité et une pureté améliorées qui est critique pour le succès des derniers produits semi-conducteurs et nanotechnologiques.