Occasion APPLIED MATERIALS Centura MxP #130910 à vendre en France
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Vendu
ID: 130910
PECVD SiO2 / SiON / SiO2 system
3 chambers: (2) Poly, (1) Oxide
Power: 208VAC, 3ø, 50/60Hz
ENI-OEM-12BX3
Eabara A30W X2
Ebara AA70W
Ebara A70W X2
Gases : Ch A-He, N2,SiH4, CF4, N2O
Ch B-He, N2,SiH4, CF4, NF3, NH3, N2O
Ch C-He, N2,SiH4, CF4, N2O
Process Kits
Clamp chucks
EPD
Turbos
Dry pumps (Edwards IL/IH600)
(Qty 3) RF Gen ENI OEM-12B
HE
Neslab chiller
Rear monitor
All cables
Software: English
De-installed Q1 2010
2000 vintage.
MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura MxP est un équipement performant et à grande échelle conçu pour permettre une production rentable de produits et de structures de wafer grand public. Le système est équipé d'une variété de technologies pour assurer une efficacité maximale et la compatibilité avec les processus de fabrication les plus exigeants. Le réacteur intègre plusieurs éléments, dont une chambre de grande surface, une unité de dépôt thermiquement homogène et une source de plasma automatisée, pour un traitement précis et efficace des substrats sensibles. La machine offre un haut degré de flexibilité de processus, permettant à l'utilisateur de traiter simultanément des dispositifs de polarité positive et négative ainsi que des substrats petits et grands. Le réacteur assure également un contrôle de haute précision de la température et de la pression, permettant le dépôt précis de plusieurs couches en une seule opération. L'outil est optimisé pour la production de dispositifs de haute puissance avancés et le traitement des paquets de niveau de plaquette. L'actif est également adapté aux procédés d'évaporation thermique générale et de revêtement photorésistant. Le réacteur Centura MxP équipé d'une conception de chambre optimisée a un débit élevé, un meilleur contrôle des procédés et une homogénéité améliorée, et une réactivité thermique minimisée pour améliorer le rendement de production du dispositif. La source de plasma intégrée est conçue pour permettre le dépôt de couches multiples sur un même substrat. Le modèle dispose également d'une chambre de grande surface, qui offre une homogénéité thermique supérieure et une uniformité pour un traitement efficace. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura MxP offre un contrôle efficace et fiable des processus avec un ensemble de fonctionnalités avancées telles que des techniques de contrôle et de surveillance à plusieurs chambres, y compris la détection de gaz et le contrôle de l'atmosphère. Le protocole Ethernet/IP intégré garantit une capacité de transfert de données ainsi qu'une vitesse de traitement accrue. L'équipement dispose également de dispositifs de sécurité avancés pour protéger les travailleurs contre les processus dangereux. Dans l'ensemble, le réacteur Centura MxP est un système avancé et performant conçu pour la fabrication efficace et rentable de produits et de structures de wafer grand public. Les technologies intégrées et la conception avancée garantissent une efficacité et une qualité maximales, ce qui en fait le choix idéal pour la production à grande échelle de dispositifs semi-conducteurs.
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