Occasion APPLIED MATERIALS Endura 5500 #180431 à vendre en France
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Vendu
ID: 180431
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
PVD system, 8"
Specifications:
Main frame: through the wall configuration
Wafer handing: SNNF
Front panel type: Painted
Software version: 8.91
Single board computer in controller: Yes
Ion gauges: 451 nude
Robots:
Buffer robot: HP+
Blade material: Original metal
Load lock: No wide body
Index handler type: Enhanced tilt out
Loadlock vents: Variable soft vent + fast vent
Transfer robot: VHP
Blade material: CVD compatible
Narrow body: Yes (Tilt-out)
Chamber specifications:
Chamber 2:
Metal / Applic.: IMP Tin
Body Style: Vectra Imp
Source type: Vectra Imp
Power Supply: 12kW
Power Supply: 12kW
Heater: B101
Basic chamber setup:
A. Pass through
B. Cool down
C. PC 2
D. PC 2
E. Orientor with Std Degas
F. Orientor with Std Degas
Gasline fittings: AMAT specifications
For preclean / CVD:
Chamber C:
Vacuum pump type: Ebara
RF match: 180431
Cable length: 75"
RF match type: 8"
Power supply: RFPP 10A
Chamber D:
Vacuum pump type: Ebara
RF match: 180431
Cable length: 75"
RF match type: 8"
Power supply: RFPP 10A
MFC type:
Process MCF-1:
2: AR (size 100)
3: Hecar; BTpur;EDpur ;Phat (size 500;2000;3000;1)
4: AR (size 100)
C: AR (size 20)
D: AR (size 20)
Process MFC-2:
2: N2 (size 100)
3. 500;2000;3000;1 (size 1000;1000;1000)
C. AR (size 300)
D. AR (size 300)
Paste chamber: Yes (chamber 5)
System roughing pump type: Ebara
Chamber cryo pump type: OB8F
Umbilicals:
- mainframe to controller: Yes
- mainframe to generator racks: Yes
- mainframe to cryo compressor: Yes
- main AC to system controller/sys. AC: Yes
- syst cont/sys AC to primary Gen rack: Yes
- main AC to primary generator rack: Yes
- main AC to pump frame: Yes
- main AC to Neslab heat exchanger: Yes
- monitor cable: Yes
- monitor2 cable: Yes
- monitor3 cable: Yes
CE Mark: Yes
EMO Option: Yes
EMO button guard rings: Yes
Water leak detector: Yes
Buffer and transfer lid hoist: NO
Support Equipment:
Heat exchangers:
Number: 1
Type: AMAT
Cryo compressors: Yes
Number: 2
Type: 9600
Cryo He lines Yes
Neslab present: Yes
Resistivity meter: NO
Manuals not included
Installed
1999 vintage.
MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 est un réacteur multi-chambres haut de gamme dédié à l'amélioration des performances et de la fiabilité des dispositifs à base de silicium. Endura 5500 est conçu pour fournir des rendements élevés au coût le plus bas possible tout en conservant la plus haute qualité et précision. La conception avancée de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 permet de réaliser différents procédés à base de silicium en un seul outil, tels que dépôt, gravure, recuit, dépôt, gravure et inspection. En conséquence, Endura 5500 est en mesure de fournir le plus haut débit avec les plus hauts rendements dans l'industrie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 utilise un équipement innovant à double pompe, qui permet un réglage flexible et rapide des paramètres de processus à toutes les étapes de la production. Le système utilise des vitesses de pompe très efficaces afin de réduire la contamination, tout en fournissant la puissance nécessaire pour compléter de nombreux processus différents. En outre, l'unité utilise le chauffage infrarouge sur les plaquettes, donnant à l'utilisateur un contrôle complet sur les températures du processus. Endura 5500 est un réacteur fiable et robuste bien adapté à la fabrication de plaquettes semi-conductrices utilisant les procédés semi-conducteurs les plus avancés. La machine est équipée d'un haut degré d'automatisation, ce qui permet la réalisation de procédures complexes sans intervention manuelle. En outre, les matériaux appliqués Endura 5500 est conçu pour être compatible avec les systèmes de contrôle modernes et permet l'intégration de différentes plates-formes logicielles dans l'outil. Endura 5500 est capable de réaliser une grande variété de procédés, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), pour déposer des matériaux dans un environnement contrôlé, des températures de processus allant jusqu'à 1100 ° C et une plage de pression allant jusqu'à 10 Torr. Cela permet de réaliser rapidement et avec un haut degré de contrôle des processus simples et à double face, tels que la métalogie et la photolithographie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 est équipé d'un module de production de cristaux (CGM) unique qui est capable de services de croissance de cristaux et de dopage, tous deux nécessaires à la création de certains types de dispositifs semi-conducteurs. Le CGM assure un contrôle exact de la température et de la pression, permettant d'obtenir les matériaux contrôlés et précisément dopés. Le réacteur Endura 5500 est conçu pour être un atout automatisé, rentable et technologiquement avancé. Sa gamme complète de caractéristiques en fait un choix idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs qui nécessitent le plus haut niveau de précision et de qualité. Ce réacteur est un outil fiable et digne de confiance, adapté à de nombreux processus différents et fournira des performances fiables pour de nombreuses années à venir.
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