Occasion APPLIED MATERIALS Endura 5500 #180431 à vendre en France

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ID: 180431
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
PVD system, 8" Specifications: Main frame: through the wall configuration Wafer handing: SNNF Front panel type: Painted Software version: 8.91 Single board computer in controller: Yes Ion gauges: 451 nude Robots: Buffer robot: HP+ Blade material: Original metal Load lock: No wide body Index handler type: Enhanced tilt out Loadlock vents: Variable soft vent + fast vent Transfer robot: VHP Blade material: CVD compatible Narrow body: Yes (Tilt-out) Chamber specifications: Chamber 2: Metal / Applic.: IMP Tin Body Style: Vectra Imp Source type: Vectra Imp Power Supply: 12kW Power Supply: 12kW Heater: B101 Basic chamber setup: A. Pass through B. Cool down C. PC 2 D. PC 2 E. Orientor with Std Degas F. Orientor with Std Degas Gasline fittings: AMAT specifications For preclean / CVD: Chamber C: Vacuum pump type: Ebara RF match: 180431 Cable length: 75" RF match type: 8" Power supply: RFPP 10A Chamber D: Vacuum pump type: Ebara RF match: 180431 Cable length: 75" RF match type: 8" Power supply: RFPP 10A MFC type: Process MCF-1: 2: AR (size 100) 3: Hecar; BTpur;EDpur ;Phat (size 500;2000;3000;1) 4: AR (size 100) C: AR (size 20) D: AR (size 20) Process MFC-2: 2: N2 (size 100) 3. 500;2000;3000;1 (size 1000;1000;1000) C. AR (size 300) D. AR (size 300) Paste chamber: Yes (chamber 5) System roughing pump type: Ebara Chamber cryo pump type: OB8F Umbilicals: - mainframe to controller: Yes - mainframe to generator racks: Yes - mainframe to cryo compressor: Yes - main AC to system controller/sys. AC: Yes - syst cont/sys AC to primary Gen rack: Yes - main AC to primary generator rack: Yes - main AC to pump frame: Yes - main AC to Neslab heat exchanger: Yes - monitor cable: Yes - monitor2 cable: Yes - monitor3 cable: Yes CE Mark: Yes EMO Option: Yes EMO button guard rings: Yes Water leak detector: Yes Buffer and transfer lid hoist: NO Support Equipment: Heat exchangers: Number: 1 Type: AMAT Cryo compressors: Yes Number: 2 Type: 9600 Cryo He lines Yes Neslab present: Yes Resistivity meter: NO Manuals not included Installed 1999 vintage.
MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 est un réacteur multi-chambres haut de gamme dédié à l'amélioration des performances et de la fiabilité des dispositifs à base de silicium. Endura 5500 est conçu pour fournir des rendements élevés au coût le plus bas possible tout en conservant la plus haute qualité et précision. La conception avancée de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 permet de réaliser différents procédés à base de silicium en un seul outil, tels que dépôt, gravure, recuit, dépôt, gravure et inspection. En conséquence, Endura 5500 est en mesure de fournir le plus haut débit avec les plus hauts rendements dans l'industrie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 utilise un équipement innovant à double pompe, qui permet un réglage flexible et rapide des paramètres de processus à toutes les étapes de la production. Le système utilise des vitesses de pompe très efficaces afin de réduire la contamination, tout en fournissant la puissance nécessaire pour compléter de nombreux processus différents. En outre, l'unité utilise le chauffage infrarouge sur les plaquettes, donnant à l'utilisateur un contrôle complet sur les températures du processus. Endura 5500 est un réacteur fiable et robuste bien adapté à la fabrication de plaquettes semi-conductrices utilisant les procédés semi-conducteurs les plus avancés. La machine est équipée d'un haut degré d'automatisation, ce qui permet la réalisation de procédures complexes sans intervention manuelle. En outre, les matériaux appliqués Endura 5500 est conçu pour être compatible avec les systèmes de contrôle modernes et permet l'intégration de différentes plates-formes logicielles dans l'outil. Endura 5500 est capable de réaliser une grande variété de procédés, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), pour déposer des matériaux dans un environnement contrôlé, des températures de processus allant jusqu'à 1100 ° C et une plage de pression allant jusqu'à 10 Torr. Cela permet de réaliser rapidement et avec un haut degré de contrôle des processus simples et à double face, tels que la métalogie et la photolithographie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 est équipé d'un module de production de cristaux (CGM) unique qui est capable de services de croissance de cristaux et de dopage, tous deux nécessaires à la création de certains types de dispositifs semi-conducteurs. Le CGM assure un contrôle exact de la température et de la pression, permettant d'obtenir les matériaux contrôlés et précisément dopés. Le réacteur Endura 5500 est conçu pour être un atout automatisé, rentable et technologiquement avancé. Sa gamme complète de caractéristiques en fait un choix idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs qui nécessitent le plus haut niveau de précision et de qualité. Ce réacteur est un outil fiable et digne de confiance, adapté à de nombreux processus différents et fournira des performances fiables pour de nombreuses années à venir.
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