Occasion APPLIED MATERIALS Endura 5500 #182849 à vendre en France

MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'Endura 5500 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD) qui est utilisé pour déposer des films sur la surface des plaquettes semi-conductrices. Le réacteur Endura 5500 est un équipement de procédé conçu pour fournir des films d'excellente qualité dans un procédé de dépôt précis, efficace et reproductible. Il utilise plusieurs méthodes pour optimiser le processus de dépôt, y compris la variation d'une gamme de différents paramètres liés au plasma. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura 5500 utilise une technologie de pointe pour générer une décharge plasma uniforme qui aide à créer des films reproductibles et fiables. Il dispose d'un joint de vide métal-métal qui élimine le besoin de joints toriques et autres joints métalliques, permettant un contrôle de pression très précis et répétable. En outre, le réacteur dispose d'un système de distribution de gaz refroidi par conduction thermique avec une pression de dispersion faible, assurant même l'acheminement du gaz vers les plaquettes. Le réacteur Endura 5500 peut être configuré pour accueillir une variété de procédés différents, y compris la pulvérisation magnétron et la pulvérisation réactive, ainsi que d'autres procédés de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma, PECVD et Etch. Le réacteur est également équipé d'un système informatique de procédé performant qui permet la précision des processus. Le réacteur peut être surveillé à distance et fournit un suivi en temps réel et un retour d'information sur les résultats du procédé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura 5500 présente également des perfectionnements matériels et logiciels avancés qui augmentent considérablement le débit et le rendement des processus. Il est capable de délivrer des taux de dépôt de film aussi élevés que 60nm/s et dispose de plusieurs caractéristiques conçues pour améliorer la répétabilité et la reproductibilité des processus, y compris un système de distribution de gaz constant, un appariement RF local et global, des opérations simultanées à double chambre et un contrôle dynamique RF et indépendant des biais. Enfin, le réacteur Endura 5500 produit avec succès des films ultra-lisses de haute qualité sur la surface des plaquettes. Cela peut fournir une variété d'avantages, y compris une meilleure résistance aux déchirures et aux rayures, des propriétés diélectriques améliorées, et une résistance accrue aux produits chimiques et à l'usure. En outre, le réacteur Endura 5500 peut être utilisé pour déposer facilement des films sur de grandes plaquettes pour divers appareils électroniques, y compris les cellules solaires et les dispositifs de stockage.