Occasion APPLIED MATERIALS P 5000 Mark II #67130 à vendre en France
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Vendu
ID: 67130
Metal etch system, 6"
Configuration details:
Precision 5000 Mark II MxP Etch system 6”
Mark II mainframe containing load lock chamber
Cassette to cassette wafer handling
VME system controller with hard disk and floppy disk storage
28 line compatible on-board gas panel
Bolt down load lock chamber lid and load lock purge system
Microprocessor controller including CRT display, self diagnostics, host computer interface via RS232 port SECS II protocol
Standard floppy and hard disc (170NMB) storage
Etch chambers include:
Temperature controlled pedestal
Magnet modules and cylinder lift mechanisms
Slit valve, gas distribution components
RF isolator, RF match
Capacitance manometer, throttle valve
Independent helium cooling
Integrated end point detector
Remote package including pumps, RF power supplies, heat exchanger, NESLAB recirculator, main AC box and other facilities
Fifty foot remote package cable length
Features:
(2) metal etch chambers and one strip chamber system
Chamber A: 6” clamped metal etch process kit
Chamber B: 6” clamped metal etch process kit
Chamber C & D: 6” advanced strip and passivation chamber
Including 1200 Watt generator process kit, hardware gas distribution plate and MFC controller gas line per chamber
6” metal etch process kit with:
AL etch ceramic fingered basic kit 0240-31587E
0.95” fingered ceramic focus ring 0240-09757E
Tapered head SiC DC Pick-ups 0240-31359
Unilid gas distribution plate - 119holes 0020-32259
6” advanced strip and passivation chamber process kit basket style wafer support
Gas panel A&B: BCL3, Cl2, CF4, N2, SF6 / C: O2, N2, H2O
Through the wall system
Heat Exchanger AMAT 1 and Heat Exchanger AMAT0
(1) NESLAB HX150 is missing
(1) etch chamber is leaking glycol (can be repaired but it is better to change the body chamber)
Second chamber has been repaired for the same problem
Machine was in production until Q3 2009
Currently installed in fab
Gases are purged and the machine is powered off
Can be inspected and powered on to see software only
Spare parts available, list is shown in photos
1998 vintage.
MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 Mark II est un réacteur de traitement parallèle configurable à haute performance conçu pour le dépôt en plusieurs étapes d'une grande variété de matériaux. C'est l'équipement de dépôt le plus avancé sur le marché, offrant une flexibilité de processus et des capacités de surveillance inégalées. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 MARK II est un réacteur à haut volume de processus de production qui peut accueillir des chambres jusqu'à 5,5 x 4,0 mètres de taille, lui donnant jusqu'à 20 chambres simultanées et un débit total de plus de 8 400 wafers par heure. Il est capable de traiter avec précision une gamme de tailles de plaquettes, de 75mm à 300mm, et est capable d'effectuer une grande variété de diagnostics in situ, de tests d'assurance de la qualité et de caractérisation électrique dans une seule chambre de réacteur. Le système offre un niveau de contrôle et d'uniformité des processus de pointe dans l'industrie, avec des fonctionnalités telles que le contrôle automatisé de la dose, le cyclage en chambre, le rapport des résultats, l'optimisation paramétrique et la détection et la prévention des pannes. P 5000-MARK II dispose également d'un socle remplaçable avancé conçu pour la maintenance rapide des processus et le changement d'outils. Ses cassettes de plaquettes et son unité de livraison de gaz haute performance assurent une répétabilité et une uniformité de processus cohérentes. Une machine à vide intégrée avec plusieurs pompes à vide et ports d'échappement offre un fonctionnement fiable et minimise les fuites de processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II est conçu spécifiquement pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs avancés, y compris le carbure de silicium, le nitrure de gallium, le cristallisure de cuivre indium gallium, et plus encore. Il est capable de réaliser une gamme de processus de dépôt, y compris le plasma radial, la pulvérisation, l'exposition à la lumière et le dépôt de couche atomique (DAL). Son logiciel HMI fournit un suivi graphique et l'analyse des tendances de tous les paramètres de chambre, ainsi que l'analyse et l'optimisation de pulvérisation complète. P 5000 MARK II est le choix idéal pour un réacteur de procédé fiable et à haut débit avec le plus haut niveau de précision et de flexibilité. Avec son HMI sophistiqué et intégré, il offre une solution rentable pour répondre aux exigences de production les plus exigeantes. Sa répétabilité fiable, cohérente et automatisée garantit des rendements, une qualité et un débit élevés.
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