Occasion APPLIED MATERIALS P 5000 #129972 à vendre en France

MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est un réacteur de pointe à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) qui offre un débit amélioré, de meilleures performances de l'appareil et une répétabilité supérieure sur toutes les étapes de la production, ce qui conduit finalement à une qualité supérieure de l'appareil. L'équipement offre un temps de traitement rapide, répétable et précis, et peut facilement passer de petites à grandes tailles de substrat. APPLIED MATERIALS P5000 est conçu pour travailler dans des environnements de R-D et de production. Les principaux composants du système comprennent la chambre, le cadre de base, les alimentations et le contrôleur de processus. A l'intérieur de la chambre, la source et les pompes à vide alimentent le gaz et évacuent les sous-produits. Les alimentations permettent de contrôler les différents paramètres du processus PECVD tels que les gaz du processus, la puissance RF et la pression. Le contrôleur du procédé stocke la recette du procédé et est responsable de la coordination de tous les différents paramètres au cours d'un processus de dépôt. La chambre de P-5000 est équipée d'une électrode RF et d'un mandrin pour maintenir le substrat pendant le processus de dépôt. La puissance RF est contrôlée par les alimentations et la température du mandrin est maintenue par une unité de régulation de température précise. Divers gaz de procédé peuvent être alimentés individuellement ou en mélanges, ce qui est déterminé en fonction du matériau semi-conducteur déposé. La pression à l'intérieur de la chambre est contrôlée par une pompe turbomoléculaire, ce qui permet d'assurer une concentration précise des gaz de procédé. Une fois qu'une recette de dépôt est saisie par l'opérateur, le contrôleur de processus est chargé de gérer les différents paramètres pour assurer la répétabilité du processus de dépôt. La pression et le débit du gaz de procédé sont continuellement contrôlés et ajustés pour assurer le dépôt de la meilleure couche de matière. La puissance RF, la température du mandrin et la pression sont également surveillées et ajustées pour assurer l'uniformité du dispositif. Grâce à P5000, les clients peuvent déposer des matériaux avancés tels que le nitrure de silicium, le silicium oxydé et le carbure de silicium avec une répétabilité supérieure. Cette machine offre également une solution de gravure intégrée qui est capable d'enlever un matériau indésirable ou de bloquer le matériau déposé. APPLIED MATERIALS P-5000 est idéal pour les matériaux semi-conducteurs avancés et peut être utilisé dans la production de divers appareils électroniques. Avec ses caractéristiques avancées, son débit élevé et ses résultats reproductibles, le P 5000 est un outil inestimable pour les installations industrielles et de recherche à la recherche de performances haut de gamme.