Occasion APPLIED MATERIALS P 5000 #163402 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

Fabricant
APPLIED MATERIALS
Modèle
P 5000
ID: 163402
Taille de la plaquette: 8"
PECVD system, 8" Configuration: (4) CVD chambers Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride Precision 5000 Mark II Mainframe Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant) SECS Communication Port Laminar flow mini-environment behind input/output window Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers Process chamber configured for ceramic chuck operation 15 slot storage elevator for faster run rates eDOC remote system for combustion of un-reacted silane Nitride thin film configured (no hotbox) Heat exchanger Remote frame with remote AC power box (1) High frequency RF generator per chamber on remote frame (4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock Ergonomic Cassette Load/Unload Excursion Prevention (EP) software ready Currently crated.
MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est un réacteur spécialisé en dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui est utilisé pour la production commerciale de matériaux électroniques et semi-conducteurs. En effet, APPLIED MATERIALS P5000 est utilisé pour la fabrication de silicium polycristallin, de silicium polycristallin TFT (Thin Film Transistor), de grille de silicium polycristallin et de matériaux poly-SiON (Polysilicon Oxide Nitride). Ce système polyvalent fonctionne en décomposant des précurseurs chimiques dans une chambre à vide pour former un film ou une couche de matériau sur un substrat. Ce procédé de dépôt est connu sous le nom de dépôt chimique en phase vapeur et nécessite des températures élevées et un contrôle précis de la pression. P-5000 réacteur fournit les niveaux élevés de contrôle et de précision qui sont nécessaires pour des opérations de production fiables et efficaces. Sa conception avancée comprend une chambre de distribution séparée, où les précurseurs, les réactifs et les gaz inertes sont chargés, et une chambre de réaction où le dépôt a lieu. Le réacteur P 5000 présente également un large éventail de paramètres de procédé tels que la température, la pression et les débits d'oxygène, qui peuvent tous être ajustés pour assurer un dépôt de film cohérent et uniforme. Au cœur du réacteur APPLIED MATERIALS P-5000 se trouve son système de chauffage à haute puissance, qui permet une gamme de températures de processus comprises entre 400 ° C et 960 ° C Cela permet de réduire la complexité du processus de dépôt et de maintenir une couche de film cohérente sur le substrat. P5000 réacteur dispose également d'une chambre de réaction ultra-précise et d'un refroidissement assistée par ventilateur en option pour améliorer encore l'efficacité et la qualité des produits du processus de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les systèmes de réacteurs P 5000 sont généralement équipés de systèmes avancés d'automatisation et de contrôle, de dispositifs de sécurité pour protéger le personnel et l'équipement, et de systèmes de surveillance hors ligne pour assurer le respect des spécifications du produit. En outre, les réacteurs comportent des composants résistants à la corrosion et des revêtements de protection utilisés pour réduire les besoins de maintenance. Dans l'ensemble, le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 offre une solution fiable, efficace et rentable pour les procédés CVD utilisés pour créer des matériaux électroniques et semi-conducteurs. Sa conception avancée, ses capacités de précision et ses systèmes de contrôle intelligents en font un excellent choix pour la production commerciale.
Il n'y a pas encore de critiques